[发明专利]具有薄的耐久性减反射结构的无机氧化物制品

权利要求书

1.一种耐划痕制品，其包括：

包含相对主表面的无机氧化物基材；和

与无机氧化物基材的第一主表面直接接触的光学膜结构，所述光学膜结构包括130nm至小于325nm的物理厚度，多个交替的高折射率层与低折射率层，具有位于所述第一主表面上的第一低折射率层，以及封盖低折射率层，

其中，所述多个交替的高折射率层与低折射率层是至少四层(4层)，其中，每个低折射率层包括含硅氧化物以及每个高折射率层包括含硅氮化物或含硅氧氮化物，

其中，与所述封盖低折射率层相邻的高折射率层的光学厚度是45nm至450nm，以及所述封盖低折射率层的物理厚度是80nm或更大，

其中，制品展现出：在100nm压痕深度测得的8GPa或更大的硬度，或者在100nm至500nm的压痕深度范围测得的9GPa或更大的最大硬度，所述硬度和最大硬度通过布氏压痕计硬度测试测量，

其中，高折射率层的总物理厚度是光学膜结构的物理厚度的30％或更大，以及

其中，制品展现出小于2％的单侧适光平均反射率。

2.如权利要求1所述的耐划痕制品，其中，所述第一低折射率层与所述基材的第一主表面直接接触。

3.如权利要求1-2中任一项所述的耐划痕制品，其中，所述制品展现出在100nm压痕深度测得的10GPa或更大的硬度，或者在100nm至500nm的压痕深度范围测得的11GPa或更大的最大硬度，所述硬度和最大硬度通过布氏压痕计硬度测试测量。

4.如权利要求1-2中任一项所述的耐划痕制品，其中，所述制品展现出反射中-10至+5的a*值以及反射中-10至+2的b*值，a*和b*值分别是在光学膜结构上以近法向入射照射角测量的。

5.如权利要求1-2中任一项所述的耐划痕制品，其中，所述制品展现出反射中-4至+4的a*值以及反射中-6至-1的b*值，a*和b*值分别是在光学膜结构上以近法向入射照射角测量的。

6.如权利要求1-2中任一项所述的耐划痕制品，其中，所述无机氧化物基材包括选自下组的玻璃：钠钙玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃、含碱性硼硅酸盐玻璃和碱性铝硼硅酸盐玻璃。

7.如权利要求6所述的耐划痕制品，其中，所述玻璃经过化学强化且包括峰值压缩应力是250MPa或更大的压缩应力层，所述压缩应力层在化学强化玻璃中从第一主表面延伸到10微米或更大的压缩深度。

8.如权利要求1-2中任一项所述的耐划痕制品，其中，所述无机氧化物基材是晶体基材。

9.如权利要求8所述的耐划痕制品，其中，所述晶体基材是玻璃陶瓷基材。

10.如权利要求1-2中任一项所述的耐划痕制品，其还包括布置在光学膜结构上的以下任意一种或多种：易清洁涂层、钻石状涂层和耐划痕涂层。

11.如权利要求1-2中任一项所述的耐划痕制品，其中，所述制品在900nm至1000nm的红外光谱中展现出大于或等于87％的单侧平均透射率。

12.如权利要求1-2中任一项所述的耐划痕制品，其中，所述光学膜结构的物理厚度是160nm至300nm。

13.如权利要求1-2中任一项所述的耐划痕制品，其中，所述制品展现出小于1.8％的单侧适光平均反射率。

14.如权利要求1-2中任一项所述的耐划痕制品，其中，所述制品展现出小于1.5％的单侧适光平均反射率。

15.如权利要求1-2中任一项所述的耐划痕制品，其中，高折射率层的总物理厚度是光学膜结构的物理厚度的35％或更大。