[发明专利]一种无机非金属基材均匀电镀工艺方法在审

专利信息
申请号: 202111560490.7 申请日: 2021-12-17
公开(公告)号: CN114016095A 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 张磊;蒋志明;郑雪明 申请(专利权)人: 深圳市天熙科技开发有限公司
主分类号: C25D3/38 分类号: C25D3/38;C25D21/12;C25D17/10
代理公司: 深圳市中科创为专利代理有限公司 44384 代理人: 杨春;谢亮
地址: 518000 广东省深圳市龙岗区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 无机 非金属 基材 均匀 电镀 工艺 方法
【权利要求书】:

1.一种无机非金属基材均匀电镀工艺方法,其特征在于,具体技术方案包括:

S1.在带有循环滤过系统的电镀槽中加入高导电性活化电镀液;

S2.将基板置于环形阴极固定架上;

S3.对阴阳两极进行通电,然后对带电镀PCB板进行电镀。

2.根据权利要求1所述的无机非金属基材均匀电镀工艺方法,所述高导电活化电镀液,其具体成分为:主盐剂:分散剂:活化剂:增强剂:添加剂:缓冲剂的质量比为50-70:10-15:5-15:5-10:5-8:4-7。

3.根据权利要求2所述的无机非金属基材均匀电镀工艺方法,所述主盐剂的成分为:硫酸铜:磷酸铜:醋酸铜:焦磷酸铜:硝酸铜的摩尔比为:35-45:25-30:5-10:15-20:20-25。

4.根据权利要求2所述的无机非金属基材均匀电镀工艺方法,所述分散剂的成分为:聚乙二醇(分子量200-400Da):氢氟酸:TCEP(三羧基乙基膦)的摩尔比为30-40:25-35:35-47。

5.根据权利要求2所述的无机非金属基材均匀电镀工艺方法,所述活化剂的成分为:碱金属氯化物:碱金属焦磷酸盐:碱金属硼酸盐的摩尔比为:30-35:35-40:30-40。

6.根据权利要求2所述的无机非金属基材均匀电镀工艺方法,所述增强剂的成分为:羟基喹啉:大环多氨:多巴胺:吡啶基席夫碱:水溶性Pd@ZIF的摩尔比为:25-30:15-25:25-30:30-35:5-10。

7.根据权利要求2所述的无机非金属基材均匀电镀工艺方法,所述添加剂的成分为:脂肪酸酰胺:油酸:聚酯:透明质酸的摩尔比为:15-30:20-25:25-30:15-25。

8.根据权利要求2所述无机非金属基材均匀电镀工艺方法,所述缓冲剂的成分为:硼酸:醋酸:磷酸二氢钾:磷酸氢二钠:焦磷酸的摩尔比为:30-45:10-12:15-20:15-20:20-25。

9.根据权利1所述的一种无机非金属基材均匀电镀工艺方法,步骤S2中所述的环形阴极固定架,由四根可伸缩铜条组成,铜条之间通过螺丝固定,每根铜条上有固定铜压片,压片可以通过螺丝调节夹的力度。

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