[发明专利]一种用于主次镜相对弯沉的测量装置及其测量方法

权利要求书

1.一种用于主次镜相对弯沉的测量装置，其特征在于，包括次镜座、次镜端安装调整工装、平面反射镜、次镜端探测器、固定透镜组、调焦透镜组、光管安装调整机构、光管探测器、光纤点光源、分光镜；所述固定透镜组、调焦透镜组和分光镜组成内调焦光管，所述调焦透镜组依据不同测量模式的选择沿光轴方向移动，使所述光纤点光源成像在所述次镜端探测器的靶面或无穷远位置；所述次镜座用于安装望远镜的次镜，所述次镜端安装调整工装固定在所述次镜座上，所述次镜端安装调整工装依据不同测量模式的选择调整所述次镜端探测器的靶面的中心法线与次镜光轴同轴或调整所述平面反射镜的中心法线与所述次镜同轴；所述平面反射镜和所述次镜端探测器依据不同测量模式的选择分别安装在所述次镜端安装调整工装上；所述光管安装调整机构安放在主镜的中心孔后端，所述光管安装调整机构用于调整内调焦光管的光轴与主镜光轴同轴；所述内调焦光管固定在光管安装调整机构上；所述光纤点光源连接在所述内调焦光管后端的焦点处，所述光管探测器安装在所述内调焦光管的侧面经所述分光镜转折形成的分光焦点处。

2.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，当测量次镜径向位移弯沉时，所述次镜端探测器设置在所述次镜端安装调整工装上；当测量次镜角度偏转时，所述平面反射镜设置在所述次镜端安装调整工装上。

3.一种用于主次镜相对弯沉的测量方法，其特征在于，包括步骤：

步骤1、测量前，选择径向位移测量模式或角度偏转测量模式，根据测量模式选择安装次镜端探测器或平面反射镜，调节好内调焦光管焦距，调整好内调焦光管及次镜端探测器或平面反射镜的位置姿态；

步骤2、测量时，操作如权利要求1-2任一项所述 的装置，并依据不同测量模式的选择，记录次镜端探测器或光管探测器上像点的脱靶量数据；

步骤3、测量后，处理数据并输出测量结果。

4.根据权利要求3所述的测量方法，其特征在于，当选择径向位移测量模式，步骤1包括：将次镜端探测器安装在次镜端安装调整工装上，使次镜端探测器接收光纤点光源的像点，并调整调焦透镜组的位置，使像点光斑最小。

5.根据权利要求3所述的测量方法，其特征在于，当选择角度偏转测量模式，步骤1包括：将平面反射镜安装在次镜端安装调整工装上，调整调焦透镜组的位置，使内调焦光管发射平行光，并调整平面反射镜的角度，使平行光原路返回进入内调焦光管经分光镜反射成像在光管探测器，再重复调整调焦透镜组的位置，使像点光斑最小。

6.根据权利要求3所述的测量方法，其特征在于，当选择径向位移测量模式，步骤2包括：在光轴水平状态下记录次镜端探测器水平及垂直两个方向的脱靶量，然后通过望远镜俯仰轴带动主次镜镜筒旋转，记录在不同俯仰角度下次镜端探测器水平及垂直两个方向的脱靶量；当选择角度偏转测量模式，步骤2包括：在光轴水平状态下记录光管探测器水平及垂直两个方向的脱靶量，然后通过望远镜俯仰轴带动主次镜镜筒旋转，记录在不同俯仰角度下光管探测器水平及垂直两个方向的脱靶量。

7.根据权利要求3所述的测量方法，其特征在于，当选择径向位移测量模式，步骤3包括：直接画出在不同俯仰角度下水平及垂直两个方向位移偏离曲线；当选择角度偏转测量模式，步骤3包括：依据在不同俯仰角度下光管探测器水平及垂直两个方向的脱靶量，计算出在不同俯仰角度下平面反射镜水平及垂直两个方向的角度偏转，然后画出在不同俯仰角度下水平及垂直两个方向角度偏转曲线。