[发明专利]临近空间环境模拟系统

权利要求书

1.一种临近空间环境模拟系统，其特征在于，包括：

导轨(1)，其用于铺设在试验室地面；

滑动安装在所述导轨(1)上的框架(2)；

位于所述框架(2)下方的试验箱(3)，所述试验箱(3)包括下工作室(3a)和罩扣在下工作室(3a)上端的上工作室(3b)，下工作室(3a)与上工作室(3b)内部合围形成测试工作空间，所述上工作室(3b)顶部设有紫外辐照装置(4)，用于向测试工作空间内照射紫外光；

设置在所述框架(2)上的卷扬机组(5)，所述卷扬机组(5)用于起吊上工作室(3b)；以及

调温机组(6)，所述调温机组(6)内部设有调温腔室(6a)，该调温腔室(6a)与所述测试工作空间之间设有循环风路，循环风路上设有循环风机(A)，所述调温机组(6)配置有用于改变调温腔室(6a)温度的温控装置、用于改变调温腔室(6a)湿度的加湿器以及用于向调温腔室(6a)提供臭氧的臭氧发生器。

2.根据权利要求1所述的临近空间环境模拟系统，其特征在于：所述上工作室(3b)上设有进风接口(a)和回风接口(b)，所述调温机组(6)上设有均与调温腔室(6a)连通的出风接口(c)和回流接口(d)，所述进风接口(a)与出风接口(c)之间，以及回风接口(b)与回流接口(d)之间均连接有软管，所述调温机组(6)固定安装在框架(2)内。

3.根据权利要求1所述的临近空间环境模拟系统，其特征在于：所述试验箱(3)的旁边放置有托架(7)，托架(7)位于框架(2)的滑动方向上。

4.根据权利要求1所述的临近空间环境模拟系统，其特征在于：所述下工作室(3a)底部设有用于固定在地面的基座(3c)，基座(3c)上设有四组向外凸出的延伸基体(3d)，四组所述延伸基体(3d)沿下工作室(3a)的周向阵列分布，四组所述延伸基体(3d)上均安装有拉拔气缸(8a)和由拉拔气缸(8a)驱动移动的轴体(8b)，所述轴体(8b)一端伸入下工作室(3a)内部，并在伸入端连接有夹持组件(8c)。

5.根据权利要求4所述的临近空间环境模拟系统，其特征在于：所述下工作室(3a)的箱壁上安装有连通其内外两侧的测试管(3e)，所述测试管(3e)外端固定安装有密封部件(3f)，所述轴体(8b)贯穿密封部件(3f)和测试管(3e)。

6.根据权利要求4所述的临近空间环境模拟系统，其特征在于：所述下工作室(3a)内部固设有导向座(3g)，导向座(3g)两端设有向上延伸的侧挡板(3h)，所述轴体(8b)与夹持组件(8c)之间通过导向部件(8d)过渡连接，导向部件(8d)的下侧安装有滚轮(8e)，滚轮(8e)滚动支撑在导向座(3g)上，导向部件(8d)的两侧安装有滚珠(8f)，滚珠(8f)滚动支撑在对应的侧挡板(3h)上，所述轴体(8b)与夹持组件(8c)分别转动连接在导向部件(8d)的内端两端。

7.根据权利要求5所述的临近空间环境模拟系统，其特征在于：所述拉拔气缸(8a)的气缸轴(8a1)上设有联轴机构(8g)，联轴机构(8g)通过滑轨组件(8h)滑动安装在对应的延伸基体(3d)上，轴体(8b)转动连接在联轴机构(8g)远离气缸轴(8a1)的一端，且轴体(8b)相对联轴机构(8g)的转动方向与轴体(8b)相对导向部件(8d)的转动方向在空间内垂直。

8.根据权利要求1所述的临近空间环境模拟系统，其特征在于：所述调温腔室(6a)连接有延伸至调温机组(6)外部的排气通道(6b)，排气通道(6b)的外端安装有泄压装置(6c)，所述泄压装置(6c)内设有加热机构(6d)。

9.根据权利要求2所述的临近空间环境模拟系统，其特征在于：所述调温腔室(6a)顶部设有与回流接口(d)和调温腔室(6a)均连通的风机室(6e)，风机室(6e)内安装有两组所述循环风机(A)。

10.根据权利要求1所述的临近空间环境模拟系统，其特征在于：所述紫外辐照装置(4)包括安装在上工作室(3b)顶部的玻璃滤光板(4a)，以及安装在玻璃滤光板(4a)上方的紫外灯(4b)，所述紫外灯(4b)内部通有干燥气体。