[发明专利]显示面板以及显示装置在审

专利信息
申请号: 202111544912.1 申请日: 2021-12-16
公开(公告)号: CN114284320A 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 李绍;孙丹丹;梅瑞琼;张卫帅 申请(专利权)人: 合肥维信诺科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;G06F3/041
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 臧静
地址: 230000 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 以及 显示装置
【说明书】:

本申请涉及一种显示面板以及显示装置,显示面板包括:发光器件层,包括层叠设置的基板以及发光层,发光层具有阵列分布的若干子像素单元;触控层,包括触控电极以及覆盖触控电极设置的平坦化层;缓冲层,设置于平坦化层背离发光器件层的一侧;光学膜层,设置于缓冲层背离触控层的一侧,光学膜层包括若干黑矩阵以及与黑矩阵同层设置的若干滤光单元,若干滤光单元与若干子像素单元一一对应设置;缓冲层的材料与平坦化层的材料相疏,缓冲层在基板上的正投影覆盖滤光单元在基板上的正投影。本申请实施例提供的显示面板以及显示装置,显示面板能够满足显示要求,同时能够有效降低彩膜层需要去除的部分在触控层上残留,保证显示面板的发光效率。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示面板以及显示装置。

背景技术

目前去偏振片技术中的主流为采用彩膜层的结构来代替偏光片,从而使得显示面板的厚度减小了100um以上,亮度提升20%,也有效的减小了柔性屏幕的极限弯折半径。

但是采用彩膜层的结构来代替偏光片技术也存在先天的缺陷,由于彩膜层直接制作于触控层上,现行的材料匹配性欠佳,存在彩膜层与触控层互溶的问题,图案化后彩膜层的去除部分将残留在触控层上,从而影响显示面板的发光效率。

发明内容

本申请实施例提供一种显示面板以及显示装置,显示面板能够满足显示要求,同时能够有效降低彩膜层需要去除的部分在触控层上残留,保证显示面板的发光效率。

一方面,根据本申请实施例提出了一种显示面板,包括:发光器件层,包括层叠设置的基板以及发光层,发光层具有阵列分布的若干子像素单元;触控层,设置于发光层背离基板的一侧,触控层包括触控电极以及覆盖触控电极设置的平坦化层;缓冲层,设置于平坦化层背离发光器件层的一侧;光学膜层,设置于缓冲层背离触控层的一侧,光学膜层包括若干黑矩阵以及与黑矩阵同层设置的若干滤光单元,若干滤光单元与若干子像素单元一一对应设置;其中,缓冲层的材料与平坦化层的材料相疏,缓冲层在基板上的正投影覆盖滤光单元在基板上的正投影。

根据本申请实施例的一个方面,缓冲层在基板上的正投影还覆盖黑矩阵在基板上的正投影。

根据本申请实施例的一个方面,缓冲层整层设置且厚度均匀。

根据本申请实施例的一个方面,缓冲层上具有多个容纳槽,黑矩阵至少部分位于容纳槽内并与围合形成容纳槽的内壁面抵接。

根据本申请实施例的一个方面,缓冲层包括阵列分布的若干缓冲单元,容纳槽由平坦化层以及若干缓冲单元围合形成而令每一容纳槽位于相邻两个缓冲单元之间,缓冲单元与滤光单元一一对应设置并覆盖对应滤光单元面向发光器件层的表面。

根据本申请实施例的一个方面,缓冲层整层设置并夹设于触控层与光学膜层之间,缓冲层与黑矩阵对应区域的厚度小于缓冲层与滤光单元对应区域的厚度。

根据本申请实施例的一个方面,缓冲层为无机材料层,平坦化层为有机材料层。

根据本申请实施例的一个方面,缓冲层的折射率小于平坦化层的折射率。

根据本申请实施例的一个方面,显示面板还包括反光层,反光层位于平坦化层以及发光层之间,反光层能够将发光器件层向出光面侧反射的光线至少部分再次反射至发光器件层所在侧。

根据本申请实施例的一个方面,子像素单元包括阳极、发光元件以及阴极,反光层在基板上的正投影覆盖各子像素单元的阴极。

根据本申请实施例的一个方面,反光层位于发光器件层与触控层之间并与阴极层叠设置。

根据本申请实施例的一个方面,显示面板还包括位于触控层以及基板之间的封装层,封装层设置于反光层靠近基板的一侧。

另一个方面,根据本申请实施例提供一种显示装置,包括上述的显示面板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥维信诺科技有限公司,未经合肥维信诺科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111544912.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top