[发明专利]一种电化学除垢装置有效

专利信息
申请号: 202111544529.6 申请日: 2021-12-16
公开(公告)号: CN114180677B 公开(公告)日: 2022-10-04
发明(设计)人: 于洪涛;康文达 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: C02F1/46 分类号: C02F1/46;C02F1/461;C02F5/00;C02F101/30
代理公司: 辽宁鸿文知识产权代理有限公司 21102 代理人: 苗青
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 电化学 除垢 装置
【权利要求书】:

1.一种电化学除垢装置,其特征在于,该电化学除垢装置包括阴极反应区(6)、阳极反应区(2)和集垢区,阴极反应区(6)和阳极反应区(2)之间通过挡板(18)隔开;阴极槽盖(9)和阳极槽盖(11)分别与挡板(18)连接,然后与装置外壳(10)和固定螺丝(8)构成电化学除垢装置的框架结构;

所述阴极反应区(6)为结垢、脱垢功能区,由多通道纳米尖端阴极(19)和阴极槽盖(9)组成,阴极槽盖(9)下方设有进水口(16);多通道纳米尖端阴极(19)束缚在胶垫(4)之间,且多通道纳米尖端阴极(19)与外接的阴极接线柱(15)相连接;

所述阳极反应区(2)由丝网阳极(17)、阳极槽盖(11)和集垢槽外壁(20)组成,丝网阳极(17)束缚在胶垫(4)之间置于阳极反应区(2)内,且与外接的阳极接线柱(12)相连接,阳极槽盖(11)上方设有出水口(13);

所述集垢区由溢流筒(5)、集垢槽(3)、排垢板(7)和刮板(1)组成;集垢区置于密封盖(14)上,溢流筒(5)为半圆柱体结构,且多通道纳米尖端阴极(19)靠近阴极槽盖(9)的一部分电极延伸至溢流筒(5)并与之相切,溢流筒(5)最上端位置与出水口(13)孔径最低位置处于同一水平高度;集垢槽(3)由倾斜板和集垢槽外壁(20)组成,倾斜板一侧端与溢流筒(5)相连接,另一侧端与集垢槽外壁(20)相连接;集垢槽(3)的出口端与排垢板(7)相连;刮板(1)紧贴于集垢槽外壁(20)和集垢槽(3)表面;

所述溢流筒(5)最上端位置与出水口(13)孔径最低位置处于同一水平高度,且高于多通道纳米尖端阴极(19)和丝网阳极(17)最高位置0.2~5cm;

所述的密封盖(14)固定于丝网阳极(17)与非延伸部分的多通道纳米尖端阴极(19)之间形成的空腔上方;多通道纳米尖端阴极(19)靠近阴极槽盖(9)一侧和丝网阳极(17)靠近阳极槽盖(11)一侧的溶液与空气相通,使得装置内部的溶液呈“凹”型分布;

所述多通道纳米尖端阴极(19)和阴极槽盖(9)之间的距离为0.3~10.0 cm;

所述多通道纳米尖端阴极(19)是以内部具有连续通道结构的材料为基础,然后经过刻蚀、阳极氧化、模板法、喷涂或电泳方法在其表面制备出具有纳米尖端结构覆盖的电极;

所述具有连续通道结构的材料是金属丝网,金属丝网的孔径范围为0.001~2 mm。

2.根据权利要求1所述的一种电化学除垢装置,其特征在于,所述金属丝网为铁、铜、铝、钛、锌、镍或不锈钢。

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