[发明专利]一种光刻机系统及光刻方法

权利要求书

1.一种光刻机系统，其特征在于，包括：

光源模块，所述光源模块能够发射至少两种能量光束；

能量光束调节模块，所述能量光束调节模块用于调整所述能量光束的波长和能量；

光学组件模块，所述光学组件模块至少包括两个凹面镜和至少一个聚焦镜，所述光学组件模块用于对所述能量光束进行共线合轴和聚焦形成贝塞尔光束；

四波混频光发射模块，所述四波混频光发射模块用于提供四波混频蓝光，所述四波混频蓝光与所述贝塞尔光束进行共线合轴和聚焦能够形成短波能量光束；

运动组件模块，所述运动组件模块包括样品台和智能机械手，所述样品台设置成能够进行位置移动状态，所述智能机械手用于调整所述样品台上的待刻样品位置。

2.根据权利要求1所述的光刻机系统，其特征在于，所述光源模块包括单波段光源、连续波段光源和部分波段光源，所述能量光束包括基础赋能光束和光刻光束。

3.根据权利要求1所述的光刻机系统，其特征在于，所述能量光束调节模块包括滤波器和分束镜。

4.根据权利要求1所述的光刻机系统，其特征在于，所述光学组件模块包括3个所述凹面镜和一个所述聚焦镜，3个所述凹面镜能够形成反射光路，所述反射光路能够将所述短波能量光束聚集在所述聚焦镜上，所述聚焦镜用于将所述短波能量光束聚焦于所述样品台上。

5.根据权利要求1所述的光刻机系统，其特征在于，所述光刻机系统还包括定位反馈模块，所述定位反馈模块包括激光与宽带光反馈装置，所述激光与宽带光反馈装置用于对所述样品台的位置进行定位和反馈。

6.根据权利要求1所述的光刻机系统，其特征在于，所述光刻机系统还包括终端控制中心，所述终端控制中心为所述光刻机系统的主控单元，能够控制所述光学组件模块内部组件的运动，并且能够使其形成对所述能量光束进行共线合轴和聚焦的反射光路。

7.根据权利要求1所述的光刻机系统，其特征在于，所述四波混频光发射模块包括球状或者柱状的四波混频蓝光发射元件。

8.一种光刻方法，应用于权利要求1至7任一项所述的光刻机系统，其特征在于，包括：

激发光源模块产生能量光束，所述能量光束包括基础赋能光束和光刻光束；

对所述能量光束进行能量调整和波长调节，将所述基础赋能光束和所述光刻光束调节成光刻作业所需要的波长，并且降低所述基础赋能光束的能量；

合并所述能量光束，将调节好的所述基础赋能光束和所述光刻光束导送入光学组件模块进行共线合轴和聚焦，并且能够形成贝塞尔光束；

对导送入所述光学组件模块中的所述贝塞尔光束进行短波处理，利用球状或者柱状二次四波混频蓝光发射元件发射出四波混频蓝光与所述贝塞尔光束合并形成短波能量光束；

控制样品台活动，利用所述短波能量光束对待刻样品进行光刻作业。

9.根据权利要求8所述的光刻方法，其特征在于，在合并所述能量光束，将调节好的所述基础赋能光束和所述光刻光束导送入光学组件模块进行共线合轴和聚焦，并且形成贝塞尔光束之后，所述方法还包括逐步增强所述基础赋能光束的能量强度，在所述基础赋能光束达到光刻阈值后，增强所述光刻光束的能量强度。

10.根据权利要求9所述的光刻方法，其特征在于，在控制样品台活动，利用所述短波能量光束对待刻样品进行光刻作业之前，所述方法还包括调整反馈，将光学组件模块形成的光路聚焦于所述样品台上，对所述样品台的移动频率进行设定。