[发明专利]一种免中间层、直接电沉积制备DSA电极的方法

权利要求书

1.一种免中间层、直接电沉积制备DSA电极的方法，其特征在于，包括以下步骤：

所述DSA电极包括：金属基底及其表面电沉积的表面活性层；所述金属基底材质为钛或者钛合金，所述表面活性层材质为Ir和Ru金属材料；

所述DSA电极的制作方法包括以下步骤：

步骤(a)、金属基底的处理：

取金属基底进行前处理，得到表面平整且没有油污和金属杂质的金属基底；

步骤(b)、电沉积表面活性层：

取Ru³⁺与Ir²⁺溶液加入配位剂和导电盐，在一定的电流下在步骤(a)得到的金属基底表面进行电沉积，在金属基底表面形成与金属基底紧密结合的表面活性层，即可得到所述DSA电极。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(a)前处理的过程具体为：将金属基底依次进行除油、酸洗活化和水洗。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，步骤(a)中，除油的过程为：将金属基底在5-20％的NaOH中浸泡20min，再依次进行乙醇和丙酮超声各30min。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，步骤(a)中，酸洗活化的过程为：将除油后的金属基底用蒸馏水冲洗干净，放入混酸溶液中进行清洗，清洗时间为5-15min；所述混酸溶液为：体积比为20:1的盐酸与氢氟酸。

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，步骤(a)中，水洗过程具体为：将酸洗活化后的金属基底从混酸溶液中取出，再用水反复冲洗，直至冲洗水的pH为7-8，之后放入乙二醇中保存。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(b)中，按质量比为1:5取氯铱酸铵和氯化钌溶于去离子水中，总浓度为3mg/mL。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，步骤(b)中，向含有氯铱酸铵和氯化钌的溶液加入NaHCO₃进行pH调节，将pH调节至9-11。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，步骤(b)中，所述配位剂为DMH，浓度为0.05-0.1g/L。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(b)中，所述导电盐为KCl，浓度为0.1M。

10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(b)中，所述电沉积的电流密度为0.1A/dm²，时间为10min。