[发明专利]光电离-四极杆质谱系统

权利要求书

1.一种光电离-四极杆质谱系统，其特征在于，包括从左到右依次设置的光电离光子源、电离室、离子聚焦组件、四极杆质量分析器和离子检测器；

所述电离室用于存储待检测的气体分子；

所述光电离光子源用于向所述电离室发射出光子，使得光子对电离室内的气体分子进行电离得到离子；

所述离子聚焦组件的一端与所述电离室连通，所述离子聚焦组件用于对离子进行聚焦；

所述四极杆质量分析器的入口与离子聚焦组件的另一端连通，所述四极杆质量分析器用于对离子进行筛选；

所述离子检测器与所述四极杆质量分析器的出口连通，所述离子检测器用于对离子浓度进行检测。

2.根据权利要求1所述的光电离-四极杆质谱系统，其特征在于，所述光电离光子源包括光源腔体和至少一个放电组件，所述放电组件的一端位于所述光源腔体内。

3.根据权利要求2所述的光电离-四极杆质谱系统，其特征在于，所述光电离光子源包括有两个所述放电组件，其中一个所述放电组件位于所述光源腔体内的上部，另一个所述放电组件位于所述光源腔体内的下部。

4.根据权利要求2或3所述的光电离-四极杆质谱系统，其特征在于，所述放电组件包括并排平行设置阳极板和阴极板，所述阳极板和所述阴极板的一端均位于所述光源腔体内。

5.根据权利要求1-3任意一项所述的光电离-四极杆质谱系统，其特征在于，所述光源腔体靠近所述电离室的侧壁面为透光板。

6.根据权利要求1-3任意一项所述的光电离-四极杆质谱系统，其特征在于，所述电离室靠近所述光电离光子源的侧壁面上设置有第一连通结构，所述电离室靠近所述离子聚焦组件的侧壁面上设置有第二连通结构，所述电离室的侧壁面上设置有进气结构。

7.根据权利要求1-3任意一项所述的光电离-四极杆质谱系统，其特征在于，所述离子聚焦组件包括至少一个聚焦透镜，所述聚焦透镜上设置有通孔。

8.根据权利要求7所述的光电离-四极杆质谱系统，其特征在于，所述离子聚焦组件包括两个或两个以上的互相平行设置的所述聚焦透镜。

9.根据权利要求8所述的光电离-四极杆质谱系统，其特征在于，靠近所述四极杆质量分析器的所述聚焦透镜上的所述通孔的孔径小于靠近所述电离室的所述聚焦透镜上的所述通孔的孔径。

10.根据权利要求1-3任意一项所述的光电离-四极杆质谱系统，其特征在于，所述离子检测器包括法拉第杯和电子倍增器，所述法拉第杯位于所述四极杆质量分析器的出口一侧，所述法拉第杯靠近所述四极杆质量分析器的侧壁面上设置有第三连通结构，所述法拉第杯的上壁面设置有第四连通结构，所述电子倍增器位于所述第四连通结构的上方。