[发明专利]曲线渲染方法、装置、计算机设备及存储介质在审
申请号: | 202111528904.8 | 申请日: | 2021-12-14 |
公开(公告)号: | CN114187383A | 公开(公告)日: | 2022-03-15 |
发明(设计)人: | 何志远 | 申请(专利权)人: | 深圳万兴软件有限公司 |
主分类号: | G06T11/20 | 分类号: | G06T11/20;G06T7/70;G06T7/66;G06T5/00 |
代理公司: | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人: | 于建 |
地址: | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曲线 渲染 方法 装置 计算机 设备 存储 介质 | ||
1.一种曲线渲染方法,其特征在于,所述方法包括:
获取待渲染曲线,并根据所述待渲染曲线所对应的贝塞尔曲线公式确认序列点t和中心点B(t),其中,t∈[0,1];
根据预设的边长函数F(t)确认待生成正方形的边长,并根据所述待生成正方形的边长和所述中心点B(t)的坐标确认顶点坐标;
根据所述顶点坐标和所述中心点B(t)的坐标生成所述待生成正方形以获得目标正方形;
对所有所述目标正方形进行平滑处理以完成对所述待渲染曲线的渲染。
2.如权利要求1所述的曲线渲染方法,其特征在于,所述获取待渲染曲线,并根据所述待渲染曲线所对应的贝塞尔曲线公式确认序列点t和中心点B(t)的步骤之前,还包括:
获取预设贝塞尔曲线公式,并根据所述预设贝塞尔曲线公式生成预设曲线;
对所述预设曲线进行拟合处理以获得所述待渲染曲线。
3.如权利要求1所述的曲线渲染方法,其特征在于,所述方法还包括:
获取预设边长值R和预设粗细函数f(t);
根据所述预设边长值R和所述预设粗细函数f(t)生成所述边长函数F(t)。
4.如权利要求1所述的曲线渲染方法,其特征在于,所述对所有所述目标正方形进行平滑处理以完成对所述待渲染曲线的渲染的步骤,包括:
获取所述中心点B(t)并根据所述边长函数F(t)确认所述目标正方形的边长长度;
计算所述目标正方形内任一像素点到所述中心点B(t)的距离;
根据所述像素点到所述中心点B(t)的距离与所述边长长度的关系对所述目标正方形内的像素点进行透明化处理。
5.如权利要求4所述的曲线渲染方法,其特征在于,所述根据所述像素点到所述中心点B(t)的距离与所述边长长度的关系对所述目标正方形内的像素点进行透明化处理的步骤,包括:
根据所述边长长度和预设比值计算参考半径;
在所述目标正方形内,将距离所述中心点B(t)的距离小于所述参考半径的区域作为第一区域,将距离所述中心点B(t)的距离大于或等于所述参考半径的区域作为第二区域;
将位于所述第二区域内的像素点进行透明化处理。
6.如权利要求5所述的曲线渲染方法,其特征在于,所述将位于所述第二区域内的像素点进行透明化处理的步骤,包括:
判断所述像素点与所述中心点B(t)的距离是否等于所述参考半径;
若所述像素点与所述中心点B(t)的距离等于所述参考半径,对所述像素点进行渐变透明化处理;
若所述像素点与所述中心点B(t)的距离不等于所述参考半径,对所述像素点进行全透明化处理。
7.如权利要求4所述的曲线渲染方法,其特征在于,所述计算所述目标正方形内任一像素点到所述中心点B(t)的距离的步骤,包括:
以所述中心点B(t)为原点建立直角坐标系,并在所述直角坐标系中确认所有所述像素点的坐标;
根据所述像素点的坐标计算所述像素点到所述中心点B(t)的距离。
8.一种曲线渲染装置,其特征在于,所述装置包括:
渲染曲线获取单元,用于获取待渲染曲线,并根据所述待渲染曲线所对应的贝塞尔曲线公式确认序列点t和中心点B(t),其中,t∈[0,1];
坐标确认单元,用于根据预设的边长函数F(t)确认待生成正方形的边长,并根据所述待生成正方形的边长和所述中心点B(t)的坐标确认顶点坐标;
正方形生成单元,用于根据所述顶点坐标和所述中心点B(t)的坐标生成所述待生成正方形以获得目标正方形;
平滑处理单元,用于对所有所述目标正方形进行平滑处理以完成对所述待渲染曲线的渲染。
9.一种计算机设备,其特征在于,所述计算机设备包括存储器以及与所述存储器相连的处理器;所述存储器用于存储计算机程序;所述处理器用于运行所述存储器中存储的计算机程序,以执行如权利要求1-7任一项所述方法的步骤。
10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述存储介质存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时可实现如权利要求1-7中任一项所述方法的步骤。
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