[发明专利]一种光学器件镜头表面用防尘膜在审
| 申请号： | 202111528903.3 | 申请日： | 2021-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN114185120A | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 虞跨海;陈艳;魏世超;吕凯鑫;姚世乐;杨茜;岳珠峰;侯乃先 | 申请（专利权）人： | 河南科技大学 |
| 主分类号： | G02B1/18 | 分类号： | G02B1/18 |
| 代理公司： | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人： | 孙亚丽 |
| 地址： | 471000 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光学 器件 镜头 表面 防尘 | ||
1.一种光学器件镜头表面用防尘膜，其特征在于：所述防尘膜包括通过化学刻蚀法、颗粒侵蚀法或者激光刻蚀法设于光学器件镜头表面的微织构层，所述微织构层是由多个以规则排列或交叉错排方式间隔排布在光学器件镜头表面的微织构单元组成的；所述微织构层上通过真空镀膜法、化学气相沉积法或溶胶-凝胶法涂覆有增透耐磨层或复合涂层。
2. 根据权利要求1所述的一种光学器件镜头表面用防尘膜，其特征在于：所述微织构单元为圆柱形、方柱形或正六边柱形；微织构单元的最大截面尺寸d为5~8μm，高度H满足H=(0.6~1.5)×d，相邻两个微织构单元的间距L满足L=(0.6~1.5) ×d。
3.根据权利要求1所述的一种光学器件镜头表面用防尘膜，其特征在于：所述增透耐磨层的厚度为50nm~200nm。
4.根据权利要求1所述的一种光学器件镜头表面用防尘膜，其特征在于：所述复合涂层包括n层增透涂层和一层涂覆于最外侧增透涂层上的耐磨防静电涂层，其中n=1或2。
5.根据权利要求4所述的一种光学器件镜头表面用防尘膜，其特征在于：当n=1时，增透涂层的折射率为1.2~2.4，增透涂层的厚度h1为50nm~200nm，耐磨防静电涂层的厚度h2满足h2=h1/2。
6.根据权利要求4所述的一种光学器件镜头表面用防尘膜，其特征在于：当n=2时，令增透涂层自里向外分别为第一增透涂层和第二增透涂层，其中第一增透涂层的折射率为1.2~1.52，第二增透涂层的折射率为1.52~2.4，第一增透涂层的厚度h3为50nm~200nm，第二增透涂层的厚度h4为50nm~200nm，耐磨防静电涂层的厚度h5满足h5=(h3+h4)/2。
7.根据权利要求1所述的一种光学器件镜头表面用防尘膜，其特征在于：光学器件镜头为平面或曲面结构。
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