[发明专利]一种抗热震碳化硅纳米多孔涂层材料及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种抗热震碳化硅纳米多孔涂层材料，其特征在于，所述涂层材料下层为碳化硅纳米颗粒组成的致密层，上层为枝状碳化硅纳米晶须组成的多孔层，并且多孔层从底部到顶部碳化硅晶须逐渐增长，呈发散状态。

2.根据权利要求1所述的抗热震碳化硅纳米多孔涂层材料，其特征在于，所述致密层厚度为1～3μm，所述多孔层厚度为70～90μm。

3.根据权利要求1所述的抗热震碳化硅纳米多孔涂层材料，其特征在于，所述碳化硅纳米颗粒粒径为30～50nm。

4.一种权利要求1-3任一项所述的抗热震碳化硅纳米多孔涂层材料的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：

1)将清洗干净的基板放入激光化学气相沉积设备的沉积腔体中，调整基板位置使其位于激光覆盖范围内；

2)将沉积腔体真空抽至真空阈值以下，通入H₂和含有前驱体的载气Ar，调节沉积压强并稳定5分钟；

3)开启激光照射碳/碳复合材料基板，使基板表面升温至沉积温度进行沉积，沉积结束后依次关闭HMDS，载气Ar和激光，当基板温度显示150℃时关闭H₂，然后抽真空，等待基片冷却至室温，在基片表面得到抗热震碳化硅纳米多孔涂层材料。

5.根据权利要求4所述的抗热震碳化硅纳米多孔涂层材料的制备方法，其特征在于，步骤1)所述基板为碳/碳复合材料或石墨基板。

6.根据权利要求4所述的抗热震碳化硅纳米多孔涂层材料的制备方法，其特征在于，步骤2)所述前驱体为六甲基二硅烷，甲基三氯硅烷，氯化硅，甲烷，丙烷中的一种或几种。

7.根据权利要求4所述的抗热震碳化硅纳米多孔涂层材料的制备方法，其特征在于，步骤2)H₂纯度为99％以上，流量为500～2000sccm，Ar纯度为99％以上，流量为20～50sccm，前驱体流量为3～9sccm。

8.根据权利要求4所述的抗热震碳化硅纳米多孔涂层材料的制备方法，其特征在于，步骤2)沉积压强为1800～2500Pa。

9.根据权利要求4所述的抗热震碳化硅纳米多孔涂层材料的制备方法，其特征在于，步骤3)激光波长为700～1200nm，步骤3)沉积温度为1000～1500℃，沉积时间为10～120min。

10.一种权利要求1-3任一项所述的抗热震碳化硅纳米多孔涂层材料作为飞行器抗烧蚀涂层方面的应用。