[发明专利]一种反应腔设备

权利要求书

1.一种反应腔设备，其腔室内设有加工待加工件的加工位，其特征在于，所述反应腔设备还包括同心设置的至少两个传送装置，所述传送装置均设有多个支撑部，所述加工位分布于相邻两个所述传送装置之间；且相邻两个所述传送装置中，位于外侧的所述传送装置的至少一个所述支撑部与位于内侧的所述传送装置的至少一个所述支撑部组成一个支撑所述待加工件的支撑位，所有所述传送装置的所述支撑部均能够同心旋转。

2.根据权利要求1所述的反应腔设备，其特征在于，所示支撑位包括三个所述支撑部，其中两个所述支撑部位于外侧，另一个所述支撑部位于内侧。

3.根据权利要求1所述的反应腔设备，其特征在于，所述支撑部设有台阶部，所述台阶部的台阶面用于支撑待加工件，所述台阶部的台阶侧壁为导向斜面。

4.根据权利要求1所述的反应腔设备，其特征在于，所述反应腔设备包括三个或以上的所述传送装置，位于两个所述传送装置之间的传送装置，包括一组位于内侧以用于和内侧所述传送装置配合形成支撑位的支撑部，以及位于外侧以用于和外侧所述传送装置配合形成支撑位的支撑部，且位于内侧的所述支撑部和位于外侧的所述支撑部能够同步旋转或各自独立旋转。

5.根据权利要求1-4任一项所述的反应腔设备，其特征在于，所述反应腔设备的腔室底壁设有第一环形槽，位于最内侧的所述传送装置设于所述腔室底壁的中部，其他所述传送装置安装于对应的所述第一环形槽。

6.根据权利要求5所述的反应腔设备，其特征在于，设于所述第一环形槽中的所述传送装置，包括环形安装座，所述环形安装座开设有槽口朝向远离所述腔室底壁方向的第二环形槽，所述环形安装座与所述第一环形槽密封连接；所述第二环形槽内配设有环形转轴，所述环形转轴和所述第二环形槽之间填充有磁流体，所述支撑部设于所述环形转轴；还包括第一旋转驱动装置，所述第一旋转驱动装置用于所述环形转轴转动。

7.根据权利要求6所述的反应腔设备，其特征在于，还包括第一传动部，所述第一环形槽的底部设有开口，所述第一传动部和所述环形转轴中任一者可穿过所述开口以建立二者的连接，所述第一旋转驱动装置通过驱动所述第一传动部旋转以带动所述环形转轴旋转。

8.根据权利要求7所述的反应腔设备，其特征在于，所述第一传动部为齿轮，所述环形转轴的底部沿其环向设有能够与所述齿轮啮合的轮齿。

9.根据权利要求7所述的反应腔设备，其特征在于，所述开口的径向两侧均设有第一波纹管，且所述第一波纹管位于所述环形安装座的底部与所述第一环形槽的底部之间，所述环形安装座通过所述第一波纹管密封连接于所述第一环形槽；

还包括升降驱动装置和第二传动部，所述第二传动部和所述环形安装座中任一者穿过所述开口以建立二者的连接，所述升降驱动装置通过驱动所述第二传动部升降以带动所述环形安装座升降。

10.根据权利要求9所述的反应腔设备，其特征在于，所述第一传动部为齿轮，所述环形转轴的底部沿其环向设有能够与所述齿轮啮合的轮齿；

所述第二传动部包括分设于所述开口径向两侧的传动杆，所述齿轮位于两所述传动杆之间。

11.根据权利要求5所述的反应腔设备，其特征在于，所述反应腔设备设有用于驱动位于最内侧的所述传送装置旋转的第二旋转驱动装置以及磁流体轴承；所述腔室底壁的中部设有通孔，所述磁流体轴承穿过所述通孔连接位于最内侧的所述传送装置，所述第二旋转驱动装置驱动所述磁流体轴承旋转以带动与所述磁流体轴承连接的所述传送装置旋转。

12.根据权利要求1-11任一项所述的反应腔设备，其特征在于，所述待加工件为晶圆，所述反应腔设备的腔室底壁设有多个加热盘，所述加热盘形成所述加工位。