[发明专利]一种用于钐钴永磁材料表面防护的镀层及钐钴永磁材料表面的防护方法在审
| 申请号： | 202111522689.0 | 申请日： | 2021-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN114464386A | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 冒守栋 | 申请（专利权）人： | 杭州磁聚力科技有限公司 |
| 主分类号： | H01F1/055 | 分类号： | H01F1/055;H01F41/02 |
| 代理公司： | 北京工信联合知识产权代理有限公司 11266 | 代理人： | 白晓晰 |
| 地址： | 310018 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 永磁 材料 表面 防护 镀层 方法 | ||
1.一种用于钐钴永磁材料表面防护的镀层，其特征在于，包括以下成分中的至少一种：
氧化铝AlOX1，X1为0～1.5之间的任意数字；
氧化铬CrOX2，X2为0～1.5之间的任意数字。
2.如权利要求1所述的镀层，其特征在于，
所述镀层包括至少一个层体，各所述层体叠置，各所述层体分别包括以下成分中的一种：
氧化铝AlOX1，X1为0～1.5之间的任意数字；
氧化铬CrOX2，X2为0～1.5之间的任意数字。
3.如权利要求1所述的镀层，其特征在于，
所述氧化铝AlOX1和氧化铬CrOX2均为非晶结构。
4.如权利要求1所述的镀层，其特征在于，
所述镀层的厚度为0.5～200μm。
5.一种钐钴永磁材料表面的防护方法，其特征在于，包括以下步骤：
在所述钐钴永磁材料表面沉积权利要求1～4任一所述的镀层。
6.如权利要求5所述的防护方法，其特征在于，
通过溅射镀、离子镀或喷涂沉积所述镀层。
7.如权利要求6所述的防护方法，其特征在于，
在进行所述溅射镀前，对所述溅射镀的靶材进行清洗，工作气压为0.1～5Pa，单位靶面积的溅射功率为0.1～15W/cm2，清洗时间大于或等于1min。
8.如权利要求5所述的防护方法，其特征在于，
在进行所述溅射镀时，工作气压为0.1～5Pa,单位靶面积的溅射功率为0.1～15W/cm2，并施加-400～-1V的偏压。
9.如权利要求5所述的防护方法，其特征在于，
在进行所述离子镀前，对所述离子镀的靶材进行清洗，工作气压为0.5～5Pa，单位靶面积的电流密度为0.5～5A/cm2，清洗时间大于或等于1min。
10.如权利要求5所述的防护方法，其特征在于，
在进行所述离子镀时，工作气压为0.5～5Pa，单位靶面积的电流密度为0.5～5A/cm2，并施加-400～-1V的偏压。
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