[发明专利]一种背光模组及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种背光模组，其特征在于，包括：

基板；

位于所述基板一侧的多个发光元件、反射结构和胶框结构，所述发光元件和所述反射结构位于所述胶框结构的限定区域内，且所述反射结构位于相邻两个所述发光元件之间；

所述反射结构包括靠近所述发光元件一侧的第一反射面，所述胶框结构包括靠近所述发光元件一侧的第二反射面。

2.根据权利要求1所述的背光模组，其特征在于，多个所述发光元件沿第一方向和第二方向阵列排布，所述第一方向和所述第二方向相交且均与所述基板所在平面平行；

所述反射结构包括沿所述第一方向延伸的第一子反射结构以及沿所述第二方向延伸的第二子反射结构，所述第一子反射结构和所述第二子反射结构交叉设置，限定出所述发光元件设置区域的至少部分边缘。

3.根据权利要求2所述的背光模组，其特征在于，多个所述发光元件包括第一类发光元件和第二类发光元件；

所述第一类发光元件位于所述背光模组的边缘位置，所述第一子反射结构和所述第二子反射结构限定所述第一类发光元件设置区域的部分边缘，所述胶框结构限定所述第一类发光元件设置区域的其余部分边缘；

所述第二类发光元件位于所述背光模组的非边缘位置，所述第一子反射结构和所述第二子反射结构限定所述第二类发光元件设置区域的全部边缘。

4.根据权利要求1所述的背光模组，其特征在于，所述第一反射面包括斜面，所述斜面包括平面或者曲面；

沿所述背光模组的出光方向，所述反射结构的宽度逐渐减小。

5.根据权利要求4所述的背光模组，其特征在于，所述第一反射面包括曲面；

第一反射面包括第一反射位置和第二反射位置，所述第一反射位置位于所述第二反射位置靠近所述基板的一侧，且所述第一反射位置位于所述第二反射位置靠近所述发光元件的一侧；

所述第一反射位置处的切线与所述基板所在平面的夹角为α，所述第二反射位置处的切线与所述基板所在平面的夹角为β，其中，0°αβ≤90°。

6.根据权利要求1所述的背光模组，其特征在于，所述背光模组还包括位于所述反射结构和所述胶框结构远离所述基板一侧的光学膜片。

7.根据权利要求6所述的背光模组，其特征在于，所述第二反射面与所述光学膜片在接触点接触，所述接触点位于所述第二反射面；所述光学膜片朝向所述基板一侧的表面与所述接触点位置处的切线之间的夹角γ满足0°γ≤90°。

8.根据权利要求7所述的背光模组，其特征在于，所述第二反射面包括斜面，所述斜面包括平面或者曲面；

沿所述背光模组的出光方向，所述胶框结构的宽度逐渐减小。

9.根据权利要求8所述的背光模组，其特征在于，所述第二反射面包括曲面；

第二反射面包括第三反射位置和第四反射位置，所述第三反射位置位于所述第四反射位置靠近所述基板的一侧且所述第三反射位置位于所述第四反射位置靠近所述发光元件的一侧；

所述第三反射位置处的切线与所述基板所在平面的夹角为δ，所述第四反射位置处的切线与所述基板所在平面的夹角为ε，其中，0°δε≤90°。

10.根据权利要求6所述的背光模组，其特征在于，所述光学膜片表面设置有多个匀光单元，所述匀光单元与所述发光元件一一对应，且沿所述背光模组的出光方向，所述匀光单元与所述发光元件至少部分交叠。

11.根据权利要求10所述的背光模组，其特征在于，所述光学膜片表面设置有多个匀光单元，所述匀光单元包括靠近所述基板一侧的第一匀光单元和/或远离所述基板一侧的第二匀光单元；

所述匀光单元包括远离所述光学膜片一侧的凸面；和/或，所述匀光单元包括多个底面为正四边形、截面为三角形的棱镜结构；在垂直所述基板的方向上，沿所述发光元件投影的中心指向所述发光元件投影的边缘的方向，所述棱镜结构的高度和宽度逐渐减小。