[发明专利]多通道场效应晶体管纳米生物传感器及其制备方法、应用在审
| 申请号: | 202111514680.5 | 申请日: | 2021-12-13 |
| 公开(公告)号: | CN114354722A | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
| 发明(设计)人: | 袁荃;杨雁冰;王懿鸣 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
| 主分类号: | G01N27/414 | 分类号: | G01N27/414;G01N33/574;G01N33/573;G01N33/543;G01N33/531 |
| 代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人: | 齐晨涵 |
| 地址: | 430072 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 通道 场效应 晶体管 纳米 生物 传感器 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种多通道场效应晶体管纳米生物传感器的制备方法,其特征在于:通过紫外光刻和金属沉积法制备金电极,利用磁控溅射法生长IGZO沟道材料,借助化学修饰法修饰识别分子,最终将聚二甲基硅氧烷即PDMS腔室与器件进行组装,实现高灵敏度、高选择性、高通量多通道IGZO场效应晶体管传感器的构建,包括如下步骤:
S1:制备金电极:
S2:制备IGZO沟道材料:
S3:修饰识别分子:
S4:组装晶体管和储液槽。
2.根据权利要求1所述的多通道场效应晶体管纳米生物传感器的制备方法,其特征在于:所述步骤S1中制备金电极,具体如下:
S1.1:采用CAD软件设计由5个源极,1个漏极,1个栅极组成的电极图形,并加工成相应掩膜版用于后续光刻操作;
S1.2:选取具有300nm氧化硅层的p型硅片作为衬底,在其表面均匀旋涂一层正性光刻胶AZ521,随后将旋涂好光刻胶的硅片置于加热板上,115℃加热4min,使光刻胶凝固;然后借助紫外光刻机曝光掩膜版上的图形,将电极图形转移至旋涂好的光刻胶上,利用ZX-238显影液显影,暴露出电极位置;
S1.3:采用热蒸发镀膜仪在步骤S1.2中硅片表面先后均匀沉积15nm的Cr层和50nm的Au层,其中Cr层用于增加Au的附着力;将沉积金属后的硅片浸泡在丙酮溶液中剥离光刻胶,随后分别用异丙醇和去离子水冲洗,氮气吹干,暴露出金电极,完成金电极的制备。
3.根据权利要求2所述的多通道场效应晶体管纳米生物传感器的制备方法,其特征在于:所述步骤S2中制备IGZO沟道材料,具体如下:
S2.1:采用磁控溅射法制备IGZO沟道材料;当磁控溅射镀膜仪腔体内的真空度达到要求后,通入氩气,调节射频电源功率为50W,腔体总压强为0.65Pa,衬底温度为150℃;预溅射10min,去除陶瓷靶表面的氧化层或其它污染物,以质量比计,所述陶瓷靶中In2O3:Ga2O3:ZnO=1:1:1;随后打开挡板,正式溅射25min,完成IGZO沟道材料的制备;
S2.2:为防止场效应晶体管漏电,将步骤S2.1制备的IGZO晶体管器件表面旋涂一层聚甲基丙烯酸甲酯即PMMA钝化金电极。
4.根据权利要求3所述的多通道场效应晶体管纳米生物传感器的制备方法,其特征在于:所述步骤S3中修饰识别分子,具体步骤如下:
S3.1:为使器件后续完成抗体修饰,将步骤S2.2制备的IGZO材料表面进行硅烷化处理;
S3.2:将硅烷化后的晶体管继续置于5%的戊二醛磷酸盐缓冲溶液(pH=7.4),设置转速为180rpm,温度25℃,在恒温摇床中孵育2小时;最后用去离子水冲洗干净剩余的戊二醛,氮气吹干;
S3.3:在步骤S3.2中晶体管器件的不同沟道区域分别滴加30mL浓度为20mg mL–1的不同膀胱癌标志物抗体,包括核基质蛋白22即NMP22,CA9重组蛋白即CA9,细胞角蛋白8即CK8,细胞角蛋白18即CK18,重组人CD47蛋白即CD47,然后置于4℃冰箱孵育12小时,通过交联剂戊二醛的醛基与蛋白质氨基间的反应完成抗体修饰;最后采用磷酸盐缓冲溶液pH=7.4,冲洗干净未结合的抗体分子,氮气吹干;
S3.4:为减小非特异性吸附,采用0.01g mL–1的牛血清白蛋白即BSA溶液封闭步骤S3.2中IGZO沟道区域未修饰抗体分子的活性位点,该过程在4℃冰箱下孵育1小时。
5.根据权利要求4所述的多通道场效应晶体管纳米生物传感器的制备方法,其特征在于:所述步骤S4中组装晶体管和储液槽,具体如下:
S4.1:首先制备储液槽;称取质量比为10:1的Sylgard 184硅氧烷预聚物和固化剂,将两者充分混合均匀,通过抽真空完全去除混合物中的气泡;然后将该混合物置于60℃加热板上加热2h,加快预聚物和固化剂的键合速度,形成PDMS;最后将制备好的PDMS用打孔器打出所需的储液槽;
S4.2:采用氧等离子体处理储液槽3min,使其表面带含氧官能团;将氧等离子体处理后的储液槽与晶体管紧密接触,最终完成IGZO场效应晶体管传感器的制备。
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