[发明专利]一株剑菌及其应用

说明书

本发明涉及一株剑菌及其应用，所述剑菌分类命名为剑菌（Ensifer sp.）RE 15，属于革兰氏阴性菌，保藏号为：CCTCC NO：M 20211334。本发明的水稻内生菌为剑菌属，其镉抗性可达150mg/L，对盐的耐受浓度可达15%，并对低浓度镉具有稳定的吸附能力，且产IAA和铁载体能力强，具有较强的促生能力，可应用至镉污染的农田中，进行生物修复，相比现有土壤细菌更加有利于开发和应用。

技术领域

本发明属于环境微生物领域，具体涉及一株剑菌及其应用。

背景技术

镉由于其高移动性和高毒性已经被公认为对人类最具威胁的主要有毒重金属之一。水稻是我国重要的粮食作物，镉在水稻的根、茎、叶及籽粒中大量积累，不仅影响水稻产量、品质及整个农田生态系统，并通过食物链危及人类健康。

植物-微生物联合修复作为一种生物修复技术，充分利用植物与微生物共生关系，因其环境友好、无二次污染等特点，逐渐成为国内外研究热点。微生物一方面能够通过对重金属的钝化作用，使重金属在土壤中沉淀或被吸附固定，改变其赋存形态，降低植物对重金属的吸收转运；另一方面，微生物能够通过多种途径促进植物生长，提高植物对重金属的耐受性，强化植物的修复效果。因此，利用植物促生菌强化植物固定修复重金属污染土壤，具有较好的应用前景。

发明内容

本发明的目的在于提供一株剑菌及其应用。

本发明的目的可通过以下技术方案来实现：

第一方面，本发明提供了一株剑菌，其分类命名为剑菌(Ensifer sp.)RE 15，属于革兰氏阴性菌，保藏号为：CCTCC NO：M 20211334。其16S rRNA序列如SEQ ID NO：1所示。

第二方面，本发明提供了上述剑菌的培养方法，将所述剑菌接种至培养基，在28～30℃条件下培养。

进一步的，所述剑菌在30℃条件下培养。

进一步的，所述剑菌在pH＝4.0～8.0条件下培养；优选7.0条件下培养。

进一步的，所述培养基为Luria-Bertani(LB)培养基，其成分为：10.0g/L蛋白胨，5.0g/L酵母粉，10.0g/L NaCl，其余为水。

第三方面，本发明提供了上述剑菌在产IAA中的应用。对所述剑菌进行发酵培养，生产IAA。

第四方面，本发明提供了上述剑菌在农作物耐镉促生中的应用。

本发明从水稻根内筛选出一株剑菌属的菌株RE 15，植物体内镉本身浓度通常低于其他环境，因此内生菌通常对镉的耐受或吸附能力较弱，但具有一定的促生性能。本发明的内生菌镉抗性可达150mg/L，对盐的耐受浓度可达15％，并对低浓度镉具有稳定的吸附能力，且产IAA和铁载体能力强，IAA产量可达75mg/L，具有较强的促生能力，可应用至镉污染的农田中，进行生物修复，相对于现有技术中的其他土壤细菌更加有利于开发和应用。

附图说明

图1是本发明中剑菌RE 15的菌落形态。

图2是本发明中剑菌RE 15的系统发育关系图。

图3是本发明中剑菌RE 15在添加不同浓度镉的培养基中细胞密度的变化图。

图4是本发明中剑菌RE 15在添加不同浓度镉的培养基中pH的变化图。

图5是本发明中不同镉浓度条件下菌株RE 15对其吸附量变化图。

本发明所述的生物材料，其分类命名为剑菌(Ensifer sp.)RE 15，已于2021年10月28日保藏于中国典型培养物保藏中心(CCTCC)，保藏号为：CCTCC NO：M 20211334，地址：中国武汉。