[发明专利]高纯度石墨的除杂方法有效
申请号: | 202111503411.9 | 申请日: | 2021-12-10 |
公开(公告)号: | CN113998696B | 公开(公告)日: | 2023-09-26 |
发明(设计)人: | 林宝松 | 申请(专利权)人: | 营口博田材料科技有限公司 |
主分类号: | C01B32/215 | 分类号: | C01B32/215;B22F1/16;B22F9/04 |
代理公司: | 北京华际知识产权代理有限公司 11676 | 代理人: | 张天会 |
地址: | 115005 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 纯度 石墨 方法 | ||
本发明涉及高纯度石墨的除杂方法,包括如下操作过程:石墨粉中加入铁粉载体,在惰性气体保护下,石墨化温度维持在2500‑3000℃,维持15‑50小时;磁吸力初步去除磁性金属杂质;加水搅拌后静置分层,去除底部的渣料;后步进行酸洗、水洗、过滤纯化。本发明通过铁的还原性去除石墨化过程反应生成的碳化硼,优化了石墨除杂方法。
技术领域
本发明涉及高纯度石墨粉的制备方法,特别涉及高纯度石墨的除杂方法。
背景技术
当前高科技领域和国际贸易的发展,对石墨的质量要求越来越高,迫切需要一种颗粒小、纯度高的石墨。
除去石墨中的杂质,通常采用方法:提高石墨化温度,延长石墨化时间。将石墨化温度提高到约3000℃,并保持15-50小时,灰分可降到0.07%以下,硼(B)的含量可降到0.5PPm,低沸点的杂质如Si、Ca、Al、Mg等都已挥发。
石墨中的杂质较麻烦处理的是难熔金属,它们形成高熔点的碳化物,如碳化硼(B4C)。碳化硼(B4C)熔点为2350℃,但即使加热到3500℃,碳化硼还不沸腾,硼在石墨结构中形成稳定的置换式固熔体,难以去除。
发明内容
本发明的目的在于解决上述问题,提供一种改进的高纯度石墨的除杂方法,去掉碳化硼这些极为有害的杂质。
为了解决上述问题,本发明采用的技术方案如下:
高纯度石墨的除杂方法,包括如下操作过程:
(1)石墨粉中加入铁粉载体,在惰性气体保护下,石墨化温度维持在2500-3000℃,维持15-60小时;
(2)初步分级后,通过磁吸力初步去除磁性金属杂质;
(3)加水搅拌后静置分层,去除底部的渣料;
(4)初步除杂后的石墨粉经过酸洗、压滤、烘干、磁吸除杂;
(4)石墨粉多次细化和分级;
(5)最终得到的石墨细粉经过磁吸除杂,并过筛;
所述铁粉载体指表面包裹有二氧化硅的铁粉。
进一步的,所述铁粉载体的制备方法包括如下操作过程:在惰性气体保护下,铁粉和SiO2混合后通过球磨,使铁粉表面包裹SiO2。
本发明的工作原理为:
石墨中混杂有硼酸或者硼酸酐,在高温和氩气保护的条件下,碳黑将硼酸或者硼酸酐还原成碳化硼,其反应为:7C+4H3BO3=B4C+6H2O+6CO;7C+2B2O3=B4C+6CO。反应生成的B4C被铁还原,其反应为:3B4C+4Fe+高温=4Fe4B3+3C。反应生成的Fe4B3和未参加反应的铁粉载体通过磁吸力去除。
本发明的有益效果:
本发明通过铁的还原性去除石墨化过程反应生成的碳化硼;
铁粉载体有助于铁粉在反应过程中不被直接氧化;
(3)铁粉表面包裹二氧化硅对铁粉的还原性起到了保护作用,并且铁参与反应后,脱离出来的二氧化硅可通过静置分层去除。
实施方式
下面对本发明的优选实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于营口博田材料科技有限公司,未经营口博田材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111503411.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种马桶冲水自动辅助装置
- 下一篇:输送器及血流导向支架系统