[发明专利]一种适用于曲面测量的光学系统在审

专利信息
申请号: 202111499937.4 申请日: 2021-12-09
公开(公告)号: CN114199143A 公开(公告)日: 2022-03-18
发明(设计)人: 曾飞;曾成;张晶 申请(专利权)人: 长园运泰利视觉科技(珠海)有限公司
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06;G02B27/12;G02B27/14
代理公司: 广州市红荔专利代理有限公司 44214 代理人: 王贤义
地址: 519000 广东省珠海市高新区唐*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 适用于 曲面 测量 光学系统
【权利要求书】:

1.一种适用于曲面测量的光学系统,它包括光源(1)和成像组件(2),其特征在于:它还包括分光棱镜(3)和光线处理镜组(4),所述光源(1)的光线射入所述分光棱镜(3),光线透过所述分光棱镜(3)射入所述光线处理镜组(4)并经所述光线处理镜组(4)折射后,所述光源(1)的所有主光线均垂直照射待测曲面,待测曲面使主光线垂直反射形成反射光,反射光按原来的射入路径射入所述光线处理镜组(4)并经所述光线处理镜组(4)射入所述分光棱镜(3),反射光经所述分光棱镜(3)的反射作用进入所述成像组件(2)进行图像或者光谱测量。

2.根据权利要求1所述的一种适用于曲面测量的光学系统,其特征在于:所述光线处理镜组(4)为成像镜组。

3.根据权利要求1所述的一种适用于曲面测量的光学系统,其特征在于:所述光线处理镜组(4)为色散镜组。

4.一种适用于曲面测量的光学系统,它包括光源(1)和成像组件(2),其特征在于:它还包括第一光路模块(5)和第二光路模块(6),所述光源(1)的光线射入所述第一光路模块(5)并经所述第一光路模块(5)倾斜照射在待测曲面,待测曲面使光线倾斜反射形成反射光,入射光和反射光的主光线在待测曲面的法平面内的投影线均垂直于待测曲面,反射光倾斜射入所述第二光路模块(6)并经所述第二光路模块(6)进入所述成像组件(2)进行图像或者光谱测量。

5.根据权利要求4所述的一种适用于曲面测量的光学系统,其特征在于:所述第一光路模块(5)包括第一准直镜组(51)、第一色散棱镜(52)和第一聚焦镜组(53),所述第二光路模块(6)包括第二聚焦镜组(61)、第二色散棱镜(62)、第二准直镜组(63),所述成像组件(2)包括第一反射镜(21)、第三准直镜组(22)、第二反射镜(23)、第三色散棱镜(24)、第三聚焦镜组(25)和相机(26),所述光源(1)的光线垂直射出依次经过所述第一准直镜组(51)、所述第一色散棱镜(52)和所述第一聚焦镜组(53)并经所述第一聚焦镜组(53)后倾斜照射在待测曲面,待测曲面使光线倾斜反射形成反射光,入射光和反射光的主光线在待测曲面的法平面内的投影线均垂直于待测曲面,反射光倾斜反射依次经过所述第二聚焦镜组(61)、所述第二色散棱镜(62)、所述第二准直镜组(63)、所述第一反射镜(21)、所述第三准直镜组(22)、所述第二反射镜(23)、所述第三色散棱镜(24)和所述第三聚焦镜组(25)并经所述第三聚焦镜组(25)进入所示相机(26)进行光谱测量。

6.一种适用于曲面测量的光学系统,它包括光源(1)和成像组件(2),其特征在于:它还包括照明镜组(7)和第二成像镜组(8),所述光源(1)的光线垂直射出依次经过所述照明镜组(7)后倾斜照射在待测曲面,待测曲面使光线倾斜反射形成反射光,入射光和反射光的主光线在待测曲面的法平面内的投影线均垂直于待测曲面,反射光倾斜反射依次经过所述第二成像镜组(8)进入所述成像组件(2)进行图像或者光谱测量。

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