[发明专利]一种低损耗材料介电参数测试方法、系统在审

专利信息
申请号: 202111498109.9 申请日: 2021-12-09
公开(公告)号: CN114167146A 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 邵海根;胡勇;郑军 申请(专利权)人: 安徽海泰科电子科技有限公司
主分类号: G01R27/26 分类号: G01R27/26;G01R31/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 242400 安徽省芜湖*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 损耗 材料 参数 测试 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种低损耗材料介电参数测试方法,其特征在于,所述低损耗材料介电参数测试方法包括:

测试谐振腔空载时的空载谐振频率f0和空载品质因数Q0

将待测介电参数的材料对应的样品放置于所述谐振腔中,测量放置所述样品后的样品谐振频率f和样品品质因数Q;

建立所述谐振腔与所述样品的用于确定所述谐振腔的电场分布的数值仿真模型;

针对任何形状的所述谐振腔,利用所述数值仿真模型确定所述谐振腔的电场分布,且计算该电场分布下的所述体积分对应的系数Csimu;以及

基于所述空载谐振频率f0、空载品质因数Q0、样品谐振频率f和样品品质因数Q以及所述系数Csimu计算所述样品的材料对应的介电参数。

2.根据权利要求1所述的低损耗材料介电参数测试方法,其特征在于,所述利用所述数值仿真模型确定所述谐振腔的电场分布包括:

通过电磁场本征模求解的方式,使用所述数值仿真模型得出谐振腔内的电场分布。

3.根据权利要求1所述的低损耗材料介电参数测试方法,其特征在于,所述基于所述空载谐振频率f0、空载品质因数Q0、样品谐振频率f和样品品质因数Q以及所述系数Csimu计算所述样品的材料对应的介电参数包括:

其中,tanδ为材料的损耗正切,Δf为所述空载谐振频率f0与所述样品谐振频率f的差。

4.根据权利要求1所述的低损耗材料介电参数测试方法,其特征在于,所述计算该电场分布下的所述体积分对应的系数Csimu包括:

其中,Vs为样品的体积,Vc为谐振腔的体积;E0为未放置样品时所述谐振腔内的电场;Es为样品内部的电场。

5.一种低损耗材料介电参数测试系统,其特征在于,所述低损耗材料介电参数测试系统包括:

测试单元,用于测试谐振腔空载时的空载谐振频率f0和空载品质因数Q0;将待测介电参数的材料对应的样品放置于所述谐振腔中,测量放置所述样品后的样品谐振频率f和样品的品质因数Q;

模型建立单元,用于建立所述谐振腔与所述样品的用于确定所述谐振腔的电场分布的数值仿真模型;

系数计算单元,用于针对任何形状的所述谐振腔,利用所述数值仿真模型确定所述谐振腔的电场分布,且计算该电场分布下的所述体积分对应的系数Csimu;以及

参数计算单元,用于基于所述空载谐振频率f0、空载品质因数Q0、样品谐振频率f和样品品质因数Q以及所述系数Csimu计算所述样品的材料对应的介电参数。

6.根据权利要求5所述的低损耗材料介电参数测试系统,其特征在于,所述系数计算单元利用所述数值仿真模型确定所述谐振腔的电场分布包括:

所述系数计算单元通过电磁场本征模求解的方式,使用所述数值仿真模型得出谐振腔内的电场分布。

7.根据权利要求5所述的低损耗材料介电参数测试系统,其特征在于,所述参数计算单元通过下述公式计算所述样品的材料对应的介电参数:

其中,tanδ为材料的损耗正切,Δf为所述空载谐振频率f0与所述样品谐振频率f的差。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽海泰科电子科技有限公司,未经安徽海泰科电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111498109.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top