[发明专利]一种VR眼镜镀膜工艺

权利要求书

1.一种VR眼镜镀膜工艺，其特征在于：包括以下步骤：

A.把镜片安装至治具；

B.把治具安装至真空镀膜装置的伞具上；

C.对镜片采用净化过滤后的等离子装置进行吹风3-5分钟；

D.采用真空镀膜装置对治具上的镜片进行真空镀膜；

其中，真空镀膜装置的镀膜空间的洁净度不低于100级，温度在23-25℃之间，湿度在60％-70％之间。

2.根据权利要求1所述的VR眼镜镀膜工艺，其特征在于：所述治具包括底座，所述底座设置支撑结构、压边结构以及通气孔，所述支撑结构用于支撑镜片以避免镜片与所述底座抵触，所述压边结构用于对镜片进行固定，所述通气孔用于对所述底座与镜片之间的空间进行抽气；所述底座由聚四氟乙烯材料制成。

3.根据权利要求2所述的VR眼镜镀膜工艺，其特征在于：所述支撑结构包括设置于所述底座顶部的支撑边，支撑边的高度为1.5-2.5mm，支撑边用于托住镜片底部的侧边；所述支撑边位于所述通气孔的外围。

4.根据权利要求2所述的VR眼镜镀膜工艺，其特征在于：所述底座设置有粘贴件，所述粘贴件用于贴住镜片。

5.根据权利要求1所述的VR眼镜镀膜工艺，其特征在于：在步骤D中，采用电子束蒸发的方式进行真空镀膜，电子束蒸发的阳极电压150-250伏，灯丝电流25-35安培，阳极电流5-8安培，真空度1.8-2.2X10-2帕。

6.根据权利要求5所述的VR眼镜镀膜工艺，其特征在于：在步骤D中，真空镀膜所采用的材料为二氧化硅或氧化钛或氧化狄安钽；当材料为氧化钛时，镀膜过程中需要进行充氧，该充氧的数值为25-50sccm。

7.根据权利要求1所述的VR眼镜镀膜工艺，其特征在于：还包括步骤E.把防污膜采用电阻蒸发或者电子束蒸发的方式镀至镜片上。

8.根据权利要求1所述的VR眼镜镀膜工艺，其特征在于：在步骤D中，镀膜空间的真空度为2*10^-3帕，温度为80-100℃。

9.根据权利要求1所述的VR眼镜镀膜工艺，其特征在于：所述伞具包括伞心、外环、传动件以及若干个转动组件，所述伞心与所述外环之间设置有多个连接件，所述传动件转动设置于所述伞心，所述传动组件用于带动若干个转动组件同时转动；转动组件安装有至少一个治具，治具用于固定凸面镜片。

10.根据权利要求1所述的VR眼镜镀膜工艺，其特征在于：所述伞具包括伞心、至少一个伞面以及至少两根伞臂，伞臂均设置于所述伞心的侧壁，所述伞面设置于相邻的两根伞臂之间；所述伞面可拆卸设置有至少一个治具；伞臂远离所述散心的一端设置有限位杆，限位杆用于对所述伞面进行限位。