[发明专利]一种烃类原料深度净化方法

权利要求书

1.一种烃类原料深度净化方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

步骤一、将烃类原料送入聚结器(1)中，通过机械方法将烃类原料中的游离水分离并排入废水回收罐(2)中，得到除水烃类原料；所述除水烃类原料中的水含量不超过300μg·g^-1；

步骤二、将步骤一中得到的除水烃类原料经聚结器(1)的上部出口送入第一前置脱水塔(3-1)或第二前置脱水塔(3-2)中进行前置脱水，得到脱水烃类原料；所述第一前置脱水塔(3-1)与第二前置脱水塔(3-2)为并联，且均装填有4A分子筛；所述脱水烃类原料中的水含量为50μg·g^-1～100μg·g^-1；

步骤三、将步骤二中得到的脱水烃类原料送入脱硫脱砷塔(4)中进行脱硫脱砷，得到脱硫脱砷烃类原料；所述脱水烃类原料的送入液空速为2h^-1～6h^-1，所述脱硫脱砷塔(4)中装填有K₂O-CuO-NiO/γ-Al₂O₃脱硫脱砷剂，且K₂O-CuO-NiO/γ-Al₂O₃脱硫脱砷剂由以下质量百分含量的成分组成：K₂O 10％～20％，CuO 5％～15％，NiO 2％～5％，γ-Al₂O₃ 60％～80％；所述脱硫脱砷烃类原料中的总硫含量不超过0.5μg·g^-1，砷化物含量不超过20ng·g^-1；

步骤四、将步骤三中得到的脱硫脱砷烃类原料送入脱氯塔(5)中进行脱氯，得到脱氯烃类原料；所述脱硫脱砷烃类原料的送入液空速为2h^-1～4h^-1，所述脱氯塔(5)中装填有T406型活性炭脱氯剂，且T406型活性炭脱氯剂由以下质量百分含量的成分组成：CuO 10％～15％，Na₂O 2％～10％，活性炭75％～85％；所述脱氯烃类原料中的氯化物含量不超过0.1μg·g^-1；

步骤五、经步骤四中得到的脱氯烃类原料送入第一后置脱水塔(6-1)或第二后置脱水塔(6-2)中进行后置脱水，得到深度净化后的烃类原料，然后引入原料储罐(7)中储存；所述第一后置脱水塔(6-1)与第二后置脱水塔(6-2)并联，且均装填有13X分子筛；所述深度净化后的烃类原料中的水含量不超过2μg·g^-1。

2.根据权利要求1所述的一种烃类原料深度净化方法，其特征在于，步骤一～步骤五的操作工艺条件为：温度30℃～60℃，压力1.5MPa～3.5MPa。

3.根据权利要求1所述的一种烃类原料深度净化方法，其特征在于，步骤二中所述4A分子筛和步骤五中所述13X分子筛的再生温度均为200℃～300℃，再生介质均为氮气。

4.根据权利要求1所述的一种烃类原料深度净化方法，其特征在于，步骤三中所述K₂O-CuO-NiO/γ-Al₂O₃脱硫脱砷剂由包括以下步骤的方法制备得到：

步骤301、将碱式碳酸铜和碱式碳酸镍分别在300℃～500℃焙烧4h，得到CuO粉体和NiO粉体；

步骤302、将步骤301中得到的CuO粉体和NiO粉体与拟薄水铝石混合后加入胶溶剂，然后滚动制成直径3mm～5mm的小球，依次经80℃～100℃干燥8h、300℃～500℃焙烧4h，得到脱硫脱砷半成品；

步骤303、将KOH溶于去离子水配成质量分数10％～20％的KOH溶液，然后采用等体积浸渍法将步骤302中得到的脱硫脱砷半成品放置于KOH溶液浸渍，然后依次经100℃～120℃干燥8h、300℃～500℃焙烧4h，得到K₂O-CuO-NiO/γ-Al₂O₃脱硫脱砷剂。