[发明专利]一种还原炉在审
| 申请号： | 202111458829.2 | 申请日： | 2021-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN113912065A | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 何隆;孙运德;李东东;梁建龙;刘兴平 | 申请（专利权）人： | 内蒙古新特硅材料有限公司;新特能源股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/035 | 分类号： | C01B33/035 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 李红标 |
| 地址： | 014199 内蒙古*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 还原 | ||
1.一种还原炉，其特征在于，包括：
炉体，所述炉体的底部具有底盘，所述底盘为圆形；
所述底盘的中心设有喷嘴，所述底盘上具有多个第一环形区域和多个第二环形区域，相邻两个所述第一环形区域间隔分布，相邻两个所述第一环形区域之间具有所述第二环形区域，所述第一环形区域与所述第二环形区域以所述底盘的中心为环心；
每个所述第一环形区域设有多个电极孔，多个所述电极孔沿所述第一环形区域的周向间隔分布；
每个所述第二环形区域设有多个喷嘴，多个所述喷嘴沿所述第二环形区域的周向间隔分布；
所述底盘上具有第三环形区域，所述第一环形区域与所述第二环形区域均位于所述第三环形区域的内部，所述第三环形区域上设有多个排气孔，多个所述排气孔沿所述第三环形区域的周向间隔分布。
2.根据权利要求1所述的还原炉，其特征在于，每个所述第一环形区域的多个所述电极孔沿所述第一环形区域的周向均匀间隔分布；和/或
每个所述第二环形区域的多个所述喷嘴沿所述第二环形区域的周向均匀间隔分布。
3.根据权利要求1所述的还原炉，其特征在于，多个所述第一环形区域包括：
第一子环形区域、第二子环形区域、第三子环形区域和第四子环形区域，相邻的子环形区域之间间隔设置，所述第一子环形区域、所述第二子环形区域、所述第三子环形区域和所述第四子环形区域以所述底盘的中心为环心；
所述第一子环形区域设有多个所述电极孔，多个所述电极孔沿所述第一子环形区域的周向间隔设置；
所述第二子环形区域设有多个所述电极孔，多个所述电极孔沿所述第二子环形区域的周向间隔设置；
所述第三子环形区域设有多个所述电极孔，多个所述电极孔沿所述第三子环形区域的周向间隔设置；
所述第四子环形区域设有多个所述电极孔，多个所述电极孔沿所述第四子环形区域的周向间隔设置。
4.根据权利要求3所述的还原炉，其特征在于，
所述第一子环形区域设有八个所述电极孔，八个所述电极孔沿所述第一子环形区域的周向均匀间隔设置；
所述第二子环形区域设有十六个所述电极孔，十六个所述电极孔沿所述第二子环形区域的周向均匀间隔设置；
所述第三子环形区域设有二十四个所述电极孔，二十四个所述电极孔沿所述第三子环形区域的周向均匀间隔设置；
所述第四子环形区域设有三十二个所述电极孔，三十二个所述电极孔沿所述第四子环形区域的周向均匀间隔设置。
5.根据权利要求3所述的还原炉，其特征在于，多个所述第二环形区域包括：
第一分布区、第二分布区和第三分布区，所述第一分布区、所述第二分布区和所述第三分布区以所述底盘的中心为环心；
所述第一分布区位于所述第一子环形区域与所述第二子环形区域之间，所述第二分布区位于所述第二子环形区域与所述第三子环形区域之间，所述第三分布区位于所述第三子环形区域与所述第四子环形区域之间，
所述第一分布区设有多个所述喷嘴，多个所述喷嘴沿所述第一分布区的周向均匀间隔设置；
所述第二分布区设有多个所述喷嘴，多个所述喷嘴沿所述第二分布区的周向均匀间隔设置；
所述第三分布区设有多个所述喷嘴，多个所述喷嘴沿所述第三分布区的周向间隔设置。
6.根据权利要求5所述的还原炉，其特征在于，
所述第一分布区设有四个所述喷嘴，四个所述喷嘴沿所述第一分布区的周向均匀间隔设置；
所述第二分布区设有十二个所述喷嘴，十二个所述喷嘴沿所述第二分布区的周向均匀间隔设置；
所述第三分布区设有十二个所述喷嘴，十二个所述喷嘴沿所述第三分布区的周向间隔设置。
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