[发明专利]遮蔽装置在审

专利信息
申请号: 202111454651.4 申请日: 2021-11-30
公开(公告)号: CN114114854A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 张金华;王永伦 申请(专利权)人: 中山市三美高新材料技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 梁鉴明
地址: 528400 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 遮蔽 装置
【说明书】:

发明公开了一种遮蔽装置,遮蔽装置包括:底座,设置有工件安置位;遮蔽件,可拆卸地安装于底座,遮蔽件用于与底座围合形成遮蔽腔,遮蔽件设置有匹配部,匹配部与底座围合形成与工件形状适配的工件让位口,工件让位口与遮蔽腔连通。上述的遮蔽装置,能够遮蔽具有三维造型的工件的局部,并可反复使用,从而成本较低。

技术领域

本发明涉及生产辅助工具,特别涉及一种遮蔽装置。

背景技术

曝光显影工艺,系利用光源作为工艺条件,使工件产生色彩变化的表面处理工艺。对于某些工件,工件需要局部表面产生色彩变化,这需要将工件不需上色的部分遮蔽起来。现有工艺中,对于平板形工件,可以直接用遮板贴合在工件表面而形成遮蔽。但是对于具有三维造型的工件,遮板容易漏光,因而并不能适用。为此,对于有三维造型的工件,通常采用贴膜遮蔽或者涂胶遮蔽的方式实现局部遮蔽,但是操作十分麻烦,而且贴膜和涂胶都是一次性用品,成本较高。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明提出一种遮蔽装置,能够遮蔽具有三维造型的工件的局部,并可反复使用,从而成本较低。

根据本发明实施例的遮蔽装置,其包括:底座,设置有工件安置位;遮蔽件,可拆卸地安装于所述底座,所述遮蔽件与所述底座围合形成遮蔽腔,所述遮蔽件设置有匹配部,所述匹配部与所述底座围合形成与所述工件形状适配的工件让位口,所述工件让位口与所述遮蔽腔连通。

根据本发明实施例的遮蔽装置,至少具有如下有益效果:遮蔽装置使用时,将工件安置于底座的工件安置位,安装遮蔽件,使得工件局部容置于遮蔽腔中,工件未被遮蔽的部分通过工件让位口从遮蔽腔中伸出,由于工件让位口与所述工件的形状适配,因而光线不会进入遮蔽腔,保证了局部遮蔽的效果。完成遮蔽件的安装后,通过光源照射工件未被遮蔽的表面,使其在光照下变色,从而完成曝光显影的工艺。此后,可通过拆卸遮蔽件来取下工件。由于遮蔽件的可拆卸设置,遮蔽装置可以反复使用,从而降低成本。

根据本发明的一些实施例,所述遮蔽件设置有两个并分别设置于所述底座的两侧。

根据本发明的一些实施例,所述底座和所述遮蔽件对应设置有定位凸部和定位凹部,所述定位凸部和所述定位凹部形状适配并相互插接配合。

根据本发明的一些实施例,所述底座设置有用于定位所述工件的工件定位结构。

根据本发明的一些实施例,所述底座和所述遮蔽件分别设置有能相互磁性吸引的第一磁吸件和第二磁吸件,所述底座和所述遮蔽件通过所述第一磁吸件和所述第二磁吸件形成磁吸配合。

根据本发明的一些实施例,所述第一磁吸件和所述第二磁吸件中的之一配置为永磁铁,另一配置为锁附于所述遮蔽件或所述底座的铁质螺钉,所述永磁铁与所述铁质螺钉的螺帽磁吸配合。

根据本发明的一些实施例,所述遮蔽件包括主体部,所述匹配部和所述主体部为分体制造结构,所述匹配部安装连接于所述主体部。

根据本发明的一些实施例,所述匹配部配置为板片结构。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:

图1为本发明实施例的遮蔽装置所对应的工件的立体示意图;

图2为本发明实施例的遮蔽装置的爆炸示意图;

图3为本发明实施例的遮蔽件的立体示意图;

图4为本发明实施例的遮蔽装置在组合状态下的结构示意图;

图5为图4的K-K方向的剖视图;

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