[发明专利]显示面板的制备方法以及显示面板在审
| 申请号： | 202111440099.3 | 申请日： | 2021-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN114387880A | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 孙松;熊钦;卢劲松;洪文进;许哲豪;袁海江 | 申请（专利权）人： | 北海惠科光电技术有限公司;惠科股份有限公司 |
| 主分类号： | G09F9/30 | 分类号： | G09F9/30;H05K3/32;G02F1/1362;G02F1/13 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 李莉 |
| 地址： | 536005 广西壮族自治区北海市工业园区北海大*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示 面板 制备 方法 以及 | ||
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
获取基板，所述基板包括阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板朝向所述彩膜基板的一侧表面的边缘暴露于所述彩膜基板的覆盖范围之外；
在所述阵列基板朝向所述彩膜基板的一侧表面的边缘加工第一标记；
在所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧表面的边缘加工黑矩阵；
获取覆晶薄膜；
在所述覆晶薄膜的一侧表面加工第二标记；
在所述彩膜基板侧进行光照对位，根据所述第一标记与所述第二标记，贴合所述覆晶薄膜与所述阵列基板。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述黑矩阵的光密度值为1.5至2，或2至3。
3.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述黑矩阵的光密度值大于所述第一标记的光密度值。
4.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一标记的光密度值为1至2。
5.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第二标记与所述第一标记形状相同，且所述第二标记大于所述第一标记。
6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第二标记与所述第一标记为十字形或矩形，所述第二标记的长度为200微米至300微米。
7.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述在所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧表面的边缘加工黑矩阵的步骤之后，所述显示面板的制备方法进一步包括：
在所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧表面以及所述彩膜基板远离所述阵列基板的一侧表面贴附偏光片。
8.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述彩膜基板侧进行光照对位，根据所述第一标记与所述第二标记，贴合所述覆晶薄膜与所述阵列基板的步骤包括：
在所述彩膜基板侧进行光照；
使用相机对准所述第一标记或所述第二标记进行拍摄；
调整所述覆晶薄膜的位置，以使所述第一标记与所述第二标记重合；
在所述相机拍摄到所述第一标记与所述第二标记重合时，对所述覆晶薄膜与所述阵列基板进行贴合。
9.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
获取基板，所述基板包括阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板朝向所述彩膜基板的一侧表面的边缘暴露于所述彩膜基板的覆盖范围之外；
在所述阵列基板朝向所述彩膜基板的一侧表面的边缘加工第一标记；
获取覆晶薄膜；
在所述覆晶薄膜的一侧表面加工第二标记；
进行光照对位，根据所述第一标记与所述第二标记，贴合所述覆晶薄膜与所述阵列基板；
在所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧表面的边缘加工黑矩阵。
10.一种显示面板，所述显示面板包括覆晶薄膜、相对设置的彩膜基板与阵列基板，所述阵列基板朝向所述彩膜基板的一侧表面的边缘暴露于所述彩膜基板的覆盖范围之外，所述覆晶薄膜与所述阵列基板朝向所述彩膜基板的一侧表面的边缘连接，其特征在于，所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧表面的边缘设置有黑矩阵，所述阵列基板与所述覆晶薄膜连接处设置有第一标记，所述黑矩阵的光密度值大于所述第一标记的光密度值。
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