[发明专利]一种极片及电池有效
申请号: | 202111439673.3 | 申请日: | 2021-11-30 |
公开(公告)号: | CN114141982B | 公开(公告)日: | 2023-09-05 |
发明(设计)人: | 张保海;彭冲;李俊义 | 申请(专利权)人: | 珠海冠宇电池股份有限公司 |
主分类号: | H01M4/13 | 分类号: | H01M4/13;H01M4/139;H01M10/0525;H01M10/058;H01M50/533 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 倪晓璇 |
地址: | 519180 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电池 | ||
本发明提供一种极片及电池,涉及锂离子电池技术领域,该极片包括:集流体、极耳以及涂膏层,集流体包括背对的第一侧和第二侧,第一侧和第二侧上均设有涂膏层,第一侧的涂膏层的第一位置设有第一卡槽,第二侧的涂膏层设有第二卡槽,且第二卡槽的位置与第一位置基于集流体对称分布,极耳的一端形成有第一部分和第二部分,第一部分位于第一卡槽中,第二部分位于第二卡槽中,第一位置为极片上除两端位置以外的其余位置。可以解决现有的极耳中置结构的平整性较差的问题。
技术领域
本发明涉及锂离子电池技术领域,尤其涉及一种极片及电池。
背景技术
随着锂离子电池技术的快速发展,人们对锂离子电池的倍率快充的要求越来越高,为了提升锂离子电池的快充速度,需要将锂离子电池的极耳设置在极片中除两端以外的其余位置,以此优化充放电过程中极片上电流密度的分布,提高电池的快充能力。目前,极耳中置结构中,将极耳焊接在极片中间,会在极片上形成厚度差,在电芯化成过程中会导致极片承受的压力不均,最终导致出货电芯出现表面不平及波浪变形等问题。可见,现有的极耳中置结构的平整性较差。
发明内容
本发明实施例提供一种极片及电池,以解决现有的极耳中置结构的平整性较差的问题。
第一方面,本发明实施例提供了一种极片,包括:集流体、极耳以及涂膏层,所述集流体包括背对的第一侧和第二侧,所述第一侧和所述第二侧上均设有所述涂膏层,所述第一侧的涂膏层的第一位置设有第一卡槽,所述第二侧的涂膏层设有第二卡槽,且所述第二卡槽的位置与所述第一位置基于所述集流体对称分布,所述极耳的一端形成有第一部分和第二部分,所述第一部分位于所述第一卡槽中,所述第二部分位于所述第二卡槽中,所述第一位置为所述极片上除两端位置以外的其余位置。
可选地,还包括胶纸,所述极耳的第一部分和第二部分均贴覆有所述胶纸。
可选地,还包括位于极耳周边的薄清洗区,所述薄清洗区的清洗厚度为1~20μm,所述薄清洗区的宽度范围为15~25mm,所述薄清洗区的长度范围为30~45mm。
可选地,所述第一卡槽和所述第二卡槽均包括槽口和侧壁,所述侧壁与所述集流体之间的夹角的范围为125°~165°。
可选地,所述极片为正极片和/或负极片。
第二方面,本申请实施例还提供一种电池,所述电池包括如第一方面所述的极片。
可选地,包括正极片、隔膜和负极片,所述正极片设于所述隔膜的一侧,所述负极片设于所述隔膜的另一侧,所述正极片的第一端贴覆预设长度的胶纸,所述正极片的有效长度与所述预设长度之和小于或者等于所述负极片的有效长度,所述有效长度为涂膏长度。
可选地,在所述正极片上设置有所述第一卡槽和所述第二卡槽时,所述负极片上设置有目标清洗区域,所述目标清洗区域与所述第一卡槽或者所述第二卡槽的位置相对;在所述负极片上设置有所述第一卡槽和所述第二卡槽时,所述正极片上设置有目标清洗区域,所述目标清洗区域与所述第一卡槽或者所述第二卡槽的位置相对。
可选地,所述目标清洗区域的厚度满足如下关系:
目标清洗区域的厚度大于或者等于所述极耳的厚度与所述胶纸的厚度之和与极片的涂膏厚度的差值。
本发明实施例提供的技术方案中,在极片上设置有第一卡槽和第二卡槽,极耳的一端形成有第一部分和第二部分,第一部分位于第一卡槽中,第二部分位于第二卡槽中,第一位置为涂膏层的除两端位置以外的其余位置。这样,在将极耳中置时,极耳的厚度被分散于集流体的两侧,避免极耳分布于其中一侧时,极耳中置结构带来的厚度差的问题,可以提升极片的平整性。
附图说明
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于珠海冠宇电池股份有限公司,未经珠海冠宇电池股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111439673.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:光学元件驱动装置
- 下一篇:邮件处理方法、装置、设备及存储介质