[发明专利]一种基于同轴投影的光场相机三维测量装置及系统

权利要求书

1.一种基于同轴投影的光场相机三维测量装置，其特征在于，包括：

光源，用于发射平行光；

投影件，沿第一光路设置于所述光源的后方，用于将所述平行光变为编码结构光；

半透半反镜片，沿所述第一光路设置于所述投影件的后方，所述半透半反镜片与所述投影件形成设定夹角，以用于反射或透射所述编码结构光；

主透镜组，沿所述第一光路设置于所述半透半反镜片的后方，以用于沿所述第一光路透射所述编码结构光，以照射在待测量物体上，还用于沿第二光路透射所述编码结构光，以使所述编码结构光在第二光路上到达所述待测量物体的中继像位置；

二次成像装置，沿所述第二光路设置于所述中继像位置的后方，且所述二次成像装置与所述投影件位于所述半透半反镜片的不同侧，所述二次成像装置与所述待测量物体的中继像为物像关系，以用于对所述待测量物体的中继像进行二次成像。

2.如权利要求1所述的光场相机三维测量装置，其特征在于，所述光源包括点光源和准直透镜，所述准直透镜沿所述点光源的主光轴方向设置于所述光源的后方；

或，所述光源为平行光源。

3.如权利要求1所述的光场相机三维测量装置，其特征在于，所述投影件为投影光栅、LCD、DMD、LCOS中的一种。

4.如权利要求1所述的光场相机三维测量装置，其特征在于，所述二次成像装置包括微透镜阵列和CCD感光芯片，所述微透镜阵列沿所述第二光路设置于所述中继像位置的后方，所述CCD感光芯片设置于所述微透镜阵列的远离所述半透半反镜片的一侧。

5.如权利要求1所述的光场相机三维测量装置，其特征在于，所述二次成像装置包括三角棱镜、成像透镜组和CCD感光芯片，所述三角棱镜沿所述第二光路设置于所述中继像位置的后方，所述成像透镜组沿所述第二光路设置于所述三角棱镜的后方，所述CCD感光芯片沿所述第二光路设置于所述成像透镜组的后方。

6.如权利要求1所述的光场相机三维测量装置，其特征在于，所述主透镜组包括多个沿所述第一光路间隔设置的主透镜，相邻两个所述主透镜之间的距离可调，以用于调节焦距。

7.如权利要求1所述的光场相机三维测量装置，其特征在于，还包括散热组件，所述散热组件设置于所述光源处，以用于对所述光源进行散热。

8.如权利要求1所述的光场相机三维测量装置，其特征在于，所述投影件的尺寸与所述二次成像装置的成像尺寸相对应。

9.如权利要求1所述的光场相机三维测量装置，其特征在于，所述设定夹角的角度为45°。

10.一种基于同轴投影的光场相机三维测量系统，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的光场相机三维测量装置。