[发明专利]三唑类化合物及其制备方法和应用以及除草剂

权利要求书

1.一种三唑类化合物，其特征在于，该化合物具有式(I)所示的结构，

其中，R₁、R₂、R₃、R₄各自独立地选自H、卤素、-NO₂、-NH₂、-OH、-CN、C1-C6的烷基、C1-C6的烷氧基或C1-C6的卤代烷基；

R₅选自H、卤素或C1-C6的卤代烷基；

L为不存在或者L为

2.根据权利要求1所述的化合物，其中，R₁为H或卤素；

R₂选自H、卤素、-NO₂、-OH、C1-C3的烷基、C1-C3的烷氧基或C1-C3的卤代烷基；

R₃为H或卤素；

R₄为H或卤素；

R₅选自卤素或C1-C3的卤代烷基。

3.根据权利要求1或2所述的化合物，其中，R₁为H、Cl或F；

R₂选自H、F、Cl、-NO₂、-OH、C1-C3的烷基、-CH₃O或CF₃；

R₃为H、F或Cl；

R₄为H、F或Cl；

R₅为H、F或CF₃。

4.一种制备三唑类化合物的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：在第一无机碱和第一溶剂的存在下，使式(II)所示的化合物与式(III)所示的化合物进行接触反应，

其中，式(II)和式(III)中，R₁、R₂、R₃、R₄或R₅与权利要求1-3中任意一项所述定义相同。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，式(II)所示的化合物的制备步骤包括：在第二无机碱存在下，使式(IV)所示的化合物进行关环反应；

6.权利要求1-3中任意一项所述的三唑类化合物在防治杂草中的应用。

7.根据权利要求6所述的应用，其中，所述杂草为阔叶杂草和/或禾本科杂草。

8.一种除草剂，该除草剂中含有权利要求1-3中任意一项所述的三唑类化合物。

9.根据权利要求8所述的除草剂，以所述除草剂的重量为基准，所述三唑类化合物的含量为0.02-0.06重量％。