[发明专利]光漫射部件和制造光漫射部件的方法在审
| 申请号: | 202111411742.X | 申请日: | 2015-10-21 |
| 公开(公告)号: | CN113917585A | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
| 发明(设计)人: | M·艾坦内;M·W·芬顿;T·E·迈尔斯;K·A·韦克塞尔 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号: | G02B5/02 | 分类号: | G02B5/02;G02B6/00;G02F1/13357 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 汪骏飞;侯颖媖 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 漫射 部件 制造 方法 | ||
1.一种制造光漫射部件的方法,包括:
在基板的前侧的至少一部分上制作散射中心图案;所述基板进一步包括边缘,所述边缘被配置成用于接收光源;所述图案具有与所述边缘相邻的更小的散射中心密度以及随着离所述边缘的距离增加而更大的散射中心密度,所述制作步骤包括:
在所述前侧上沉积掩模材料从而在所述前侧上制作掩模;
将所述掩模粘附至所述前侧;以及
对所述前侧进行蚀刻;以及
清洁所述前侧,
其中,所述掩模材料是用喷墨打印机沉积的墨水,并且所述沉积步骤包括:沉积具有均匀密度的第一层墨水,并且沉积与所述边缘相邻的具有更大密度的墨水的第二层墨水,并随着离所述边缘的距离增加而减小所述墨水的密度。
2.如权利要求1所述的制造光漫射部件的方法,其中,所述基板是玻璃板。
3.如权利要求1所述的制造光漫射部件的方法,其中,所述喷墨打印机沉积包括在尺寸上随机分布的小染料粒子的墨水液滴。
4.如权利要求1所述的制造光漫射部件的方法,其中,在所述沉积步骤过程中,通过墨水喷嘴沉积墨水,并且通过改变墨水厚度、改变墨水颜色、改变所述墨水喷嘴高度、或改变所述墨水喷嘴速度来控制在所述沉积步骤过程中沉积的所述第二层墨水的密度。
5.一种制造光漫射部件的方法,包括:
在基板的前侧的至少一部分上制作散射中心图案;所述基板进一步包括边缘,所述边缘被配置成用于接收光源;所述图案具有与所述边缘相邻的更小的散射中心密度以及随着离所述边缘的距离增加而更大的散射中心密度,所述制作步骤包括:
在所述前侧上沉积掩模材料从而在所述前侧上制作掩模;
将所述掩模粘附至所述前侧;以及
对所述前侧进行蚀刻;
其中,所述掩模材料均匀地分布在前侧的有待经受蚀刻的部分上,且所述粘附步骤包括以允许与所述边缘相邻的减少的蚀刻并且允许随着离所述边缘的距离增加而增加的蚀刻的方式固化所述掩模材料的步骤,并且通过改变所述固化的温度来控制所述固化。
6.如权利要求5所述的制造光漫射部件的方法,其中,所述固化步骤包括对所述掩模材料进行固化,从而允许与所述边缘相邻的减少的蚀刻并且允许随着离所述边缘的距离增加而增加的蚀刻。
7.如权利要求1所述的制造光漫射部件的方法,其中,所述蚀刻步骤包括:对所述前侧进行蚀刻,从而利用与所述边缘相邻的降低的散射中心密度以及随着离所述边缘的距离增加而增加的散射中心密度来制作散射中心密度的梯度。
8.如权利要求1所述的制造光漫射部件的方法,其中,所述蚀刻步骤在蚀刻浴中执行,所述蚀刻浴包括冰醋酸(GAA)与氟化铵(NH4F)的混合物。
9.如权利要求8所述的方法,其中,所述氟化铵(NH4F)是40%的氟化铵(NH4F)水混合物。
10.如权利要求9所述的制造光漫射部件的方法,其中,所述冰醋酸(GAA)与所述氟化铵(NH4F)水混合物的比例按照体积是约1比约9至约9比约1。
11.如权利要求1所述的制造光漫射部件的方法,其中,所述玻璃板进一步包括后侧,所述后侧与所述前侧隔开,并且所述方法进一步包括在所述制作步骤之前层压所述后侧,并在所述制作步骤之后清洁所述后侧。
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