[发明专利]一种在管网内表面上TiN涂层的沉积方法及装置在审
申请号: | 202111405602.1 | 申请日: | 2021-11-24 |
公开(公告)号: | CN114059040A | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 朱权;李象远 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34;C23C16/04;C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 成都瑞创华盛知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51270 | 代理人: | 邓瑞;辜强 |
地址: | 610065 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 管网 表面上 tin 涂层 沉积 方法 装置 | ||
1.一种在管网内表面上TiN涂层的沉积方法,其特征在于:包括以下步骤:
S1:对管网进行预处理操作;
S2:将经预处理的管网连接到内表面涂层沉积设备上;
S3:通过内表面涂层沉积设备对管网进行正负压交替涂覆的反应;
S4:反应结束后取出管网。
2.根据权利要求1所述的一种在管网内表面上TiN涂层的沉积方法,其特征在于:所述步骤S3包括以下子步骤:
S301:由内表面涂层沉积设备向管网通入保护气;
S302:通过内表面涂层沉积设备对管网进行升温并保持保护气流量;
S303:由内表面涂层沉积设备向管网通入原料气,并通过内表面涂层沉积设备对管网内形成周期性的正负压状态。
3.根据权利要求2所述的一种在管网内表面上TiN涂层的沉积方法,其特征在于:所述子步骤S303中通过控制内表面涂层沉积设备的前端阀门和后端阀门形成周期性的正负压状态,打开后端阀门并关闭前端阀门来形成负压状态,打开前端阀门关闭后端阀门来形成正压状态。
4.根据权利要求2所述的一种在管网内表面上TiN涂层的沉积方法,其特征在于:所述子步骤S303中采用定周期切换后泄压的方式来保证原料气的正向流动。
5.一种在管网内表面上TiN涂层的沉积装置,其特征在于:包括内表面涂层沉积设备,所述内表面涂层沉积设备包括原料气供应管道、加热炉、真空系统以及正负压控制系统;
所述原料气供应管道连接至加热炉的进气口,所述加热炉的出气口连接真空系统;
所述加热炉用于对管网进行加热,所述管网连接到加热炉的进气口与出气口;
所述正负压控制系统对加热炉的进气口和出气口进行控制来对管网形成周期性的正负压状态。
6.根据权利要求5所述的一种在管网内表面上TiN涂层的沉积装置,其特征在于:所述正负压控制系统包括前端阀门、后端阀门以及电磁阀控制系统;所述前端阀门设于加热炉的进气口,所述后端阀门设于加热炉的出气口,所述前端阀门与后端阀门电连接到电磁阀控制系统。
7.根据权利要求6所述的一种在管网内表面上TiN涂层的沉积装置,其特征在于:所述前端阀门和后端阀门的开合周期循环两个周期后会出现电磁阀同时打开的放空时间段来形成定周期切换后泄压以保证原料气的正向流动。
8.根据权利要求6所述的一种在管网内表面上TiN涂层的沉积装置,其特征在于:所述电磁阀控制系统包括PLC控制器;所述前端阀门与后端阀门为电磁阀。
9.根据权利要求5所述的一种在管网内表面上TiN涂层的沉积装置,其特征在于:所述原料气供应管道包括TiCl4蒸汽供应管道、H2原料气供应管道、N2原料气供应管道以及混气灌;所述TiCl4蒸汽供应管道、H2原料气供应管道以及N2原料气供应管道均连接至混气灌,所述混气罐连接至加热炉。
10.根据权利要求9所述的一种在管网内表面上TiN涂层的沉积装置,其特征在于:所述TiCl4蒸汽供应管道包括依次连接的载气供应管道以及TiCl4蒸发器;所述TiCl4蒸发器连接至混气罐。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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