[发明专利]一种具有被动辐射冷却功能的涂层纺织品及其制备方法

权利要求书

1.一种具有被动辐射冷却功能的涂层纺织品，其特征在于，包括基底以及设于所述基底上并具有分级多孔结构的辐射制冷层。

2.根据权利要求1所述的具有被动辐射冷却功能的涂层纺织品，其特征在于，所述辐射制冷层的表面设有孔径为5～7μm且密集排列的一级孔结构；

所述辐射制冷层上设有孔径为100～600nm的二级孔结构。

3.根据权利要求1所述的具有被动辐射冷却功能的涂层纺织品，其特征在于，所述辐射制冷层的孔隙率为20～70％。

4.根据权利要求1所述的具有被动辐射冷却功能的涂层纺织品，其特征在于，所述辐射制冷层的厚度为80～200μm。

5.根据权利要求1所述的具有被动辐射冷却功能的涂层纺织品，其特征在于，辐射制冷层材料为聚偏氟乙烯-六氟丙烯共聚物、聚偏氟乙烯、聚二甲基硅氧烷或聚甲基丙烯酸甲酯。

6.根据权利要求1所述的具有被动辐射冷却功能的涂层纺织品，其特征在于，所述基底为棉织物，锦纶织物，聚乳酸织物或聚酯纤维织物。

7.一种如权利要求1～6中任一项所述的具有被动辐射冷却功能的涂层纺织品的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将辐射制冷层材料溶解至有机溶剂中，加入致孔剂，搅拌均匀，制得分散液；

(2)将分散液浇筑至表面具有微米级凸起阵列的模板上，并将基底贴附于分散液上，制备涂层基底；

(3)将制得的涂层基底脱致孔剂即得所述涂层纺织品。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述致孔剂为粒径为100～600nm的纳米二氧化硅；

所述微米级凸起为粒径为5～7μm的微米二氧化硅。

9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，表面具有微米级凸起阵列的模板由如下方式制得：

将微米二氧化硅置于两个粘弹性不同的聚二甲基硅氧烷板之间进行单向摩擦，在粘弹性较大的聚二甲基硅氧烷板上形成密集排列的单层微米二氧化硅阵列，将聚二甲基硅氧烷板在200℃下处理4h，即得所述表面具有微米级凸起阵列的模板；

其中，聚二甲基硅氧烷板由聚二甲基硅氧烷预聚物和固化剂的混合物经预固化制得。

10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，采用将涂层基底浸泡于氢氟酸水溶液中的方式进行脱致孔剂处理。