[发明专利]CVD真空设备及立卧切换实现方法

权利要求书

1.一种CVD真空设备，其特征在于，包括：

机架；

支撑架，通过轴线水平的转轴安装在所述机架上，而使支撑架具有绕该转轴轴线摆转的自由度；

炉体，固定安装在所述支撑架上，随动于所述支撑架而具有使炉体轴线竖直的立式状态和使炉体轴线水平的卧式状态；

上炉门机构，位于炉体立式状态下的上端；

下炉门总成，安装在所述机架上，以在炉体转动到立式状态时与下炉门总成中的下炉门对接；以及

驱动装置，安装在机架上，并输出驱动所述支撑架，用于炉体立卧状态的切换。

2.根据权利要求1所述的CVD真空设备，其特征在于，所述下炉门包括一炉门法兰，该炉门法兰具有上下方向的工作行程；

相应地，适配一上下运动机构，以驱动所述炉门法兰。

3.根据权利要求2所述的CVD真空设备，其特征在于，承持所述炉门法兰的上下运动机构的输出构件在承持的方向上具有缓冲装置。

4.根据权利要求3所述的CVD真空设备，其特征在于，所述炉门法兰通过导引副安装在所述输出构件上；

用以构建导引副静构件的输出构件上部为杆体，一构成所述缓冲装置的弹簧套在杆体上并支撑在炉门法兰下表面；

相应地，炉门法兰气密封地导引于所述杆体。

5.根据权利要求4所述的CVD真空设备，其特征在于，所述炉门法兰为水冷法兰。

6.根据权利要求5所述的CVD真空设备，其特征在于，所述下炉门还包括一取料炉门法兰，该取料炉门法兰与所述水冷法兰气密封配合。

7.根据权利要求2~6任一所述的CVD真空设备，其特征在于，所述上下运动机构为：

第一上下运动机构，为丝母丝杠机构；

第二上下运动机构，为流体缸、电缸；或

第三运动机构，为齿轮齿条副。

8.根据权利要求1所述的CVD真空设备，其特征在于，所述驱动装置、机架，以及所述支撑架构成三角形机构；

其中驱动装置相应为具有伸缩杆的部件，该驱动装置的静部件铰装于所述机架上。

9.根据权利要求1所述的CVD真空设备，其特征在于，所述支撑架为刚性框架；

相应地，所述炉体径向刚性安装在支撑架上，并留有轴向的自由度；

提供锁合装置，于炉体的轴向用于炉体在支撑架上的锁合。

10.一种CVD真空设备立卧切换实现方法，其特征在于，将炉体安装在一支撑架上，该支撑架通过轴线水平的转轴安装在一机架上，而使支撑架具有摆转的自由度；

提供一安装在机架上的驱动装置，该驱动装置与机架，以及支撑架间形成三角形机构，以驱动支撑架摆转；

摆转的转角范围为90度，加以对应的，支撑架具有使炉体轴线水平的卧式状态和使炉体轴线竖直的立式状态；

其中，炉体的一端通过上炉门机构封接，另一端在炉体处于立式状态时由下炉门总成与炉体对接形成密封。