[发明专利]一种真空样品腔密封结构

权利要求书

1.一种真空样品腔密封结构，其特征在于，包括：

样品腔，一端设有开口；

底座，安装在所述样品腔设有开口的一端；

密封圈，安装在所述底座内，所述密封圈设置在底座与样品腔之间，所述密封圈与样品腔相连的端面为波浪形；

多个立柱，安装在所述样品腔内，所述立柱一端与底座固定连接；

样品盘，安装在所述样品腔内，用于存放样品；

调节固定件，安装在所述立柱上，用于对样品盘的位置进行调节和固定。

2.根据权利要求1所述的真空样品腔密封结构，其特征在于，调节固定件包括：

多个滑块，滑动设置在所述立柱上，用于支撑样品盘；

固定圈，固定安装在所述立柱远离底座的一端，用于将多个立柱连接固定。

3.根据权利要求1或2所述的真空样品腔密封结构，其特征在于，所述底座上开设有与密封圈相配合的卡槽。

4.根据权利要求3所述的真空样品腔密封结构，其特征在于，所述底座上还开设有与立柱相配合的通孔。

5.根据权利要求4所述的真空样品腔密封结构，其特征在于，所述底座远离样品腔的一侧安装有底圈。

6.根据权利要求5所述的真空样品腔密封结构，其特征在于，所述底圈远离底座的一侧为波浪形。

7.根据权利要求6所述的真空样品腔密封结构，其特征在于，所述底座上还开设有与底圈相配合的安装孔。

8.根据权利要求1所述的真空样品腔密封结构，其特征在于，所述底座材质为聚四氟乙烯。

9.根据权利要求1所述的真空样品腔密封结构，其特征在于，所述密封圈材质为硅胶。

10.根据权利要求6所述的真空样品腔密封结构，其特征在于，所述底圈材质为硅胶。