[发明专利]支撑单元、包括支撑单元的基板处理设备以及温度控制方法在审

专利信息
申请号: 202111396164.7 申请日: 2021-11-23
公开(公告)号: CN114554629A 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 李忠禹;朴仁奎;张容硕;全盛鍊 申请(专利权)人: 细美事有限公司
主分类号: H05B1/02 分类号: H05B1/02
代理公司: 北京市中伦律师事务所 11410 代理人: 钟锦舜;张玫
地址: 韩国忠*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 支撑 单元 包括 处理 设备 以及 温度 控制 方法
【说明书】:

一种支撑单元可以包括:多个加热器,所述多个加热器以矩阵形式设置在所述支撑单元中以加热基板;以及电源单元,所述电源单元用于向所述多个加热器供应电力,其中施加到所述多个加热器的电流由分别连接到所述矩阵的行和列的开关控制,并且连接到所述矩阵的所述行的所述开关包括能够控制施加到所述矩阵的所述行的电流的第一开关和与所述第一开关并联连接的第二开关。

技术领域

发明涉及一种支撑单元、一种包括所述支撑单元的基板处理设备以及一种温度控制方法。更特别地,本发明涉及包括在支撑单元中的加热器和使用连接到所述加热器的开关结构的温度控制方法。

背景技术

在使用常规微型加热器的温度控制方法的情况下,使用了感测待作为目标的加热器的电压和电流并且根据感测值计算每个加热器的电阻值以调整待施加到加热器的输出功率的方法。

在使用常规微型加热器的矩阵结构的情况下,使用不包括二极管的配置并且简单地提供电路结构。然而,存在的问题是,由于与目标加热器相邻的加热器的电流,难以准确测量目标加热器的电流,并且因此目标加热器的温度控制不准确。

发明内容

本发明致力于准确控制多个加热器之中的特定目标加热器区域中的温度。

本发明要解决的问题不限于上述问题。本领域技术人员通过本说明书和附图将清楚地理解未提及的问题。

本发明的一个示例性实施例提供了一种支撑单元。

所述支撑单元可以包括:多个加热器,所述多个加热器以矩阵形式设置在支撑单元中以加热基板;以及电源单元,所述电源单元用于向多个加热器供应电力,其中施加到多个加热器的电流由分别连接到矩阵的行和列的开关控制,并且连接到矩阵的行的开关包括能够控制施加到矩阵的行的电流的第一开关和与第一开关并联连接的第二开关。

在示例性实施例中,第二开关的一端可以与第一开关的一端并联连接,并且第二开关的另一端可以接地。

在示例性实施例中,第一开关和第二开关可以分别连接到矩阵的每一行。

在示例性实施例中,支撑单元还可以包括第三开关,所述第三开关分别连接到矩阵的列。

在示例性实施例中,支撑单元还可以包括控制单元,所述控制单元用于控制第一开关、第二开关和第三开关的接通/断开。

在示例性实施例中,控制单元可以连接与目标加热器连接的行的第一开关和与目标加热器连接的列的第三开关,以测量包括在矩阵中的目标加热器的电流。

在示例性实施例中,控制单元可以控制不与目标加热器连接的其他行的第二开关被连接。

在示例性实施例中,控制单元可以控制连接到包括在矩阵中的多个行中的每一行的第一开关和第二开关中的任一者被连接。

在示例性实施例中,控制单元可以控制对应于多个行的数量的第一开关中的仅一个被连接,并且控制其余行中的第二开关被连接。

本发明的另一个示例性实施例提供了一种基板处理设备。

所述基板处理设备可以包括:处理腔室,所述处理腔室具有处理空间;支撑单元,所述支撑单元将基板支撑在处理空间中;气体供应单元,所述气体供应单元将处理气体供应到处理空间;以及等离子体源,所述等离子体源由处理气体产生等离子体,其中支撑单元可以包括多个加热器,所述多个加热器以矩阵形式设置在支撑单元中以加热基板;电源单元,所述电源单元用于向多个加热器供应电力,其中施加到多个加热器的电流由分别连接到矩阵的行和列的开关控制,并且连接到矩阵的行的开关包括能够控制施加到矩阵的行的电流的第一开关和与第一开关并联连接的第二开关。

本发明的又一个示例性实施例提供了一种使用支撑单元对基板执行温度控制的方法。

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