[发明专利]一种护膝及护膝压力调整方法在审

专利信息
申请号: 202111391098.4 申请日: 2021-11-23
公开(公告)号: CN114176275A 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 郑伟;洪柠轩;刘铃铃;钟晨;欧烨佳;郑飞杰;廖俊辉;刘建彬 申请(专利权)人: 三明学院
主分类号: A41D13/06 分类号: A41D13/06;A41D27/00;A61N2/08;A61H39/00
代理公司: 厦门智慧呈睿知识产权代理事务所(普通合伙) 35222 代理人: 邱明惠
地址: 365000 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 护膝 压力 调整 方法
【权利要求书】:

1.一种护膝,其特征在于,包括:

护膝壳体,包括用于套在膝盖处的膝部及位于所述膝部上侧的上护腿部和下侧的下护腿部;

压力侦测装置,配置于所述护膝壳体上用于检测所述护膝壳体施加在用户上压力;及

调节装置,具有控制器和驱动机构,所述驱动机构包括驱动件和连接组件,所述连接组件连接在所述驱动件和护膝壳体之间;

所述控制器与所述压力侦测装置电连接,并配置为能够根据所述压力侦测装置获取的压力值来控制所述连接组件和所述护膝壳体的一方相对另一方活动,以改变所述膝部、上护腿部和/或下护腿部的径向尺寸以调节所述护膝壳体施加在用户上的压力。

2.根据权利要求1所述的护膝,其特征在于,还包括配置于所述护膝壳体内侧的色拉姆面料层。

3.根据权利要求2所述的护膝,其特征在于,包括配置在用户膝盖前侧的至少一个按摩磁片。

4.根据权利要求3所述的护膝,其特征在于,包括3个按摩磁片,3个所述按摩磁片的位置分别对应于鹤顶穴、外膝眼以及内膝眼穴位的位置设置;所述按摩磁片的表面磁场强度为0.1-0.15T。

5.根据权利要求1所述的护膝,其特征在于,包括配置在所述护膝壳体上的电源,所述电源与所述调节装置和控制器电性连接。

6.根据权利要求1所述的护膝,其特征在于,所述控制器配置为:基于所述压力值,控制所述所述连接组件和所述护膝壳体的一方相对另一方活动,以改变所述上护腿部的轴线与所述下护腿部之间的轴线,以改变所述膝部施加在用户上的压力。

7.一种护膝压力调整方法,其特征在于,应用于权利要求1-6任一所述的护膝上,所述控制器包括处理器和存储器,所述处理器执行存储器内的可执行程序实现所述调整方法,所述调整方法具备:

获取压力侦测装置侦测到的所述护膝壳体施加在用户上的压力;

将所述压力与预设的压力映射值匹配;

当所述压力大于预设的第一映射值时,控制所述连接组件相对所述护膝壳体沿第一方向活动,以使所述膝部、上护腿部和/或下护腿部的径向尺寸增大以减小施加在用户上的压力。

8.根据权利要求7所述的护膝压力调整方法,其特征在于,在将所述压力与预设的压力映射值匹配的步骤之后,还包括:

当所述压力小于预设的第二映射值时,控制所述连接组件相对所述护膝壳体沿第二方向活动,以使所述膝部、上护腿部和/或下护腿部的径向尺寸较小以增大施加在用户上的压力。

9.根据权利要求8所述的护膝压力调整方法,其特征在于,所述连接组件包括转动部,所述转动部在所述控制器的控制下相对所述护膝壳体向第一方向或第二方向转动用于调整所述上护腿部和下护腿部之间的角度。

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