[发明专利]导电膜的制备方法、触控模组及触控面板

说明书

本申请提供了一种导电膜的制备方法、触控模组及触控面板，涉及触控技术领域。该导电膜的制备方法包括：在制备载体的表面层叠设置导电材料层；在导电材料层背离制备载体的表面制备感光层，其中，感光层包括镂空图形；在感光层背离导电材料层的表面整面涂覆刻蚀剂，以便刻蚀剂途经镂空图形后刻蚀导电材料层，形成图形化导电层。该导电膜的制备方法实现线距宽度能够控制在10µm至30µm，甚至更细的精度，极大地提升显示效果，且对触控敏感度不产生影响。

技术领域

本申请涉及触控技术领域，具体涉及一种导电膜的制备方法、触控模组及触控面板。

背景技术

以往触控面板在制备中使用印刷技术来制作触控导电图形，通过该方法得到的图形过于粗糙，线距宽度在150 µm至250 µm范围内，影响显示效果，不能满足精致、美观和高质量的需求。

发明内容

为了解决上述技术问题，提出了本申请。本申请实施例提供了一种导电膜的制备方法、触控模组及触控面板。

第一方面，本申请一实施例提供了一种导电膜的制备方法，该方法包括：在制备载体的表面层叠设置导电材料层；在导电材料层背离制备载体的表面制备感光层，其中，感光层包括镂空图形；在感光层背离导电材料层的表面整面涂覆刻蚀剂，以便刻蚀剂途经镂空图形后刻蚀导电材料层，形成图形化的导电层。

结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，在导电材料层背离制备载体的表面制备感光层，包括：在导电材料层背离制备载体的表面涂覆感光材料，形成感光材料层；基于感光材料层，得到包括镂空图形的感光层。

结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，基于感光材料层，得到包括镂空图形的感光层，包括：在感光材料层背离导电材料层的表面遮光罩；光照射光罩背离感光材料层的表面，并撤掉光罩；显影除去感光材料层中未固化的感光材料，得到包括镂空图形的感光层。

结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，在感光层背离导电材料层的表面整面涂覆刻蚀剂，包括：在感光层背离导电材料层的表面整面滚涂刻蚀剂。

结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，在感光层背离导电材料层的表面整面涂覆刻蚀剂，包括：在感光层背离导电材料层的表面整面喷涂刻蚀剂。

结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，在感光层背离导电材料层的表面整面涂覆刻蚀剂，包括：在感光层背离导电材料层的表面整面刮涂刻蚀剂。

结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，制备载体的材料包含玻璃、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯和聚对苯二甲酸乙二酯中的至少一种。

结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，导电材料层的材料包含氧化铟锡、铝、铜、和钼铝钼合金中的至少一种。

第二方面，本申请一实施例提供了一种触控模组，包括导电膜，导电膜基于上述第一方面所提及的方法制备得到。

第三方面，本申请一实施例提供了一种触控面板，包括上述第二方面所提及的触控模组。

本申请实施例提供的导电膜的制备方法，通过在包括镂空图形的感光层背离导电材料层的表面整面涂覆刻蚀剂，刻蚀导电材料层以形成图形化导电层，实现线距宽度能够控制在10 µm至30 µm，甚至更细的精度，极大地提升显示效果，且对触控敏感度不产生影响。

附图说明

图1所示为本申请一实施例提供的导电膜的制备方法的流程示意图。

图2所示为本申请一实施例提供的在导电材料层背离制备载体的表面制备感光层的流程示意图。

图3所示为本申请一实施例提供的基于感光材料层，得到包括镂空图形的感光层的流程示意图。

图4所示为本申请另一实施例提供的导电膜的制备方法的流程示意图。