[发明专利]基于污点模拟的屏幕水印生成方法、存储设备及电子设备在审
| 申请号: | 202111354138.8 | 申请日: | 2021-11-16 |
| 公开(公告)号: | CN114202452A | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
| 发明(设计)人: | 田辉;吕子艳;郭玉刚;张志翔 | 申请(专利权)人: | 合肥高维数据技术有限公司 |
| 主分类号: | G06T1/00 | 分类号: | G06T1/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 230088 安徽省合肥市高*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 污点 模拟 屏幕 水印 生成 方法 存储 设备 电子设备 | ||
1.一种基于污点模拟的屏幕水印生成方法,其特征在于:包括如下步骤:
S100、根据待嵌入的信息进行处理得到字符串;
S200、根据字符串和特征图块的映射关系生成水印图片;
其中,特征图块为预先设定好的或根据一定规则生成的、且具有一定可视效果、且对用户无感的图片。
2.如权利要求1所述的基于污点模拟的屏幕水印生成方法,其特征在于:所述的特征图块为模拟灰尘、污渍、屏幕坏点的图片中的一种或多种。
3.如权利要求2所述的基于污点模拟的屏幕水印生成方法,其特征在于:所述的步骤S100中,字符串为二进制代码,将二进制代码转化成二维矩阵,二维矩阵大小为M*N,矩阵中每个元素为一位或多位0或1构成,矩阵元素和特征图块具有一一对应的映射关系;步骤S200中,按如下步骤生成水印图片:
S211、生成一张(M*S)*(N*S)大小透明位图;
S212、将透明位图分割成M*N个S*S大小的区域,每个区域分别与二维矩阵中的矩阵元素一一对应;
S213、将所有矩阵元素对应的特征图块叠加在透明位图对应区域上得到水印图片。
4.如权利要求3所述的基于污点模拟的屏幕水印生成方法,其特征在于:所述的特征图块按如下步骤预先设定好:
S221、针对任一显示器,令整个屏幕显示为白色后拍摄一张显示器的图片;
S222、按照上述步骤拍摄多个显示器的图片;
S223、截取所拍摄图片中的灰尘、污渍或坏点区域,每一个灰尘、污渍或坏点区域即为特征图块;
S224、根据特征图块的大小或形状对特征图块进行分类,每个矩阵元素对应一类特征图块;
步骤S213中,“矩阵元素对应的特征图块”即:随机从该矩阵元素对应的一类特征图块中挑选一个并进行旋转后得到。
5.如权利要求3所述的基于污点模拟的屏幕水印生成方法,其特征在于:所述的步骤S213中,“矩阵元素对应的特征图块”按如下步骤生成:
S231、根据矩阵元素挑选特征图块的预设形态,预设形态包括点、块、丝;
S232、根据该预设形态对应的参数生成随机的形状;
S233、对生成的随机形状进行填色和旋转即可得到该矩阵元素对应的特征图块。
6.如权利要求5所述的基于污点模拟的屏幕水印生成方法,其特征在于:所述预设形态为点的特征图块对应的参数为半径,预设形态为块的特征图块对应的参数为轮廓和缩放比例,预设形态为丝的特征图块对应的参数为半径、弧长以及宽度。
7.如权利要求5所述的基于污点模拟的屏幕水印生成方法,其特征在于:所述的元素和特征图块的映射关系如下:
00:无特征图块;
01:预设形态为点的特征图块;
10:预设形态为块的特征图块;
11:预设形态为丝的特征图块。
8.如权利要求5所述的基于污点模拟的屏幕水印生成方法,其特征在于:所述的步骤S213中,特征图块叠加在透明位图对应区域中的任意位置上;步骤S233中,随机形状中的所填的色彩为渐变色。
9.一种计算机可读存储介质,其特征在于:其上存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时,实现如权利要求1-8中任一项所述的水印生成方法。
10.一种电子设备,其特征在于:包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序,所述处理器执行所述计算机程序时,实现如权利要求1-8中任一项所述的水印生成方法。
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