[发明专利]一种汝窑开片釉的制作方法

说明书

本发明提供一种汝窑开片釉的制作方法，涉及陶瓷制造技术领域。该汝窑开片釉的制作方法，包括由以下重量分成份制成的釉水：钾长石50‑55份、石英10‑12份、方解石5‑6份、烧滑石20‑25份、碳酸钡5‑6份、高岭土6‑10份、氧化锌3‑5份、氧化锡1‑2份和低温熔块釉5‑10份。通过使用低温熔块釉作为釉水的原料，在使用后容易破坏釉面，进而促进开片釉面的形成，结合其他原料，整体具有优良的中高温性能，因此可以满足中高温的烧制需要，结合本发明的记载的制作方法，可以极大地提高开片质量，形成更丰富地开片效果。

技术领域

本发明涉及陶瓷制造技术领域，具体为一种汝窑开片釉的制作方法。

背景技术

汝窑的开片，是通过器坯的拉力把釉层拉裂开来，形成开片现象。这种被拉裂开来所形成的开片纹路，具有丰富多样的，例如蟹爪纹、冰裂纹、条线纹、网状纹。

现有的汝窑开片釉烧制过程中需要使用高温釉和中温釉以便可以形成更丰富的开片纹路，因此需要配置不用的釉水，并且烧制难度大，无疑降低了合格的汝窑开片釉的产量，这也是好的汝窑开片釉价格居高不下的原因。

发明内容

（一）解决的技术问题

针对现有技术的不足，本发明提供了一种汝窑开片釉的制作方法，解决了现有开片釉制作过程中高温釉和中温釉配置繁琐、烧制难度大、成品率低的问题。

（二）技术方案

为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种汝窑开片釉的制作方法，包括由以下重量分成份制成的釉水：钾长石50-55份、石英10-12份、方解石5-6份、烧滑石20-25份、碳酸钡5-6份、高岭土6-10份、氧化锌3-5份、氧化锡1-2份和低温熔块釉5-10份。

一种汝窑开片釉的制作方法，包括以下制作过程：

步骤一：釉水制作

取足量的钾长石、石英、方解石、烧滑石、碳酸钡、高岭土、氧化锌、氧化锡和低温熔块釉，并将上述原料加入到微末级粉碎机中处理1-2h，接着将粉碎后的原料以及2.5-3.5倍份数的纯净井水加入搅拌装置中进充分混合，在静置5-6h后分离出总混合液高度的十分之九作为釉水A，剩余的混合液中加入1.5倍体积的水并充分搅拌后作为釉水B;

步骤二：坯体加工

在制坯体后进行修整成型，之后将坯体自然阴凉放置至含水率10-12%；

步骤三：初步浸釉

将步骤二制成的坯体浸入到搅拌均匀的釉水B中，使坯体表面吸收0.2-0.3mm厚度的釉水B，之后阴凉放置15-18h；

步骤四：修整

将步骤三加工后的坯体进行修整，并挑选出初浸釉面偏斜的坯体并丢弃；

步骤五：初步烧制

将步骤四修整后的坯体放入到氧窑内，在850-1000℃下烧制5h，接着迅速降温至225±2℃，最后自然冷却至室温；

步骤六：二次浸釉

将釉水A升温至45-48℃并搅拌均匀，接着将初步烧制品浸入到釉水A中，之后阴凉放置15-18h，再后向坯体表面缓慢喷涂釉水A，使得釉面厚度增加0.3-0.5mm，最后阴凉放置至初步烧制品釉面含水率为2.5%；

步骤七：二次烧制

将二次浸釉后的初步烧制品放入到氧窑内，在1300-1320℃下烧制7h，接着迅速降温至260±2℃，之后打开窑门降温至100-120℃，最后关闭窑门冷却至室温，并在氧窑内放置24h。

优选的，所述初步烧制和二次烧制中均使用还原焰进行烧制。

优选的，所述纯净井水在使用前要充分过滤去0.01微米以上的杂质。

优选的，所述坯体的制作为人工制坯和机器制坯中的任意一种。

优选的，所述制作过程中每一步都要求工作场所进行降尘。