[发明专利]涂装面积的计算方法、装置、设备及可读存储介质

权利要求书

1.一种涂装面积的计算方法，其特征在于，所述涂装面积的计算方法包括：

建立待计算结构体的BIM三维结构模型，其中所述BIM三维结构模型的材质为漫反射材质；

将所述BIM三维结构模型置于光照场景，在所述光照场景中BIM三维结构模型外表面均被散射光源照射；

读取所述BIM三维结构模型每个面上的散射光源的光照强度；

根据所述光照强度计算得到BIM三维结构模型的第一涂装类型面积、第二涂装类型面积以及第三涂装类型面积。

2.如权利要求1所述的涂装面积的计算方法，其特征在于，所述根据所述光照强度计算得到BIM三维结构模型的第一涂装类型面积、第二涂装类型面积以及第三涂装类型面积的步骤包括：

计算光照强度为零的面的面积之和，得到第一涂装类型面积；

计算光照强度大于阈值的面的面积之和，得到第二涂装类型面积；

计算光照强度小于或等于阈值且大于零的面的面积之和，得到第三涂装类型面积。

3.如权利要求1所述的涂装面积的计算方法，其特征在于，所述根据所述光照强度计算得到BIM三维结构模型的第一涂装类型面积、第二涂装类型面积以及第三涂装类型面积的步骤之后，还包括：

根据第一涂装类型面积、第二涂装类型面积以及第三涂装类型面积确定涂装材料的需求量。

4.如权利要求1所述的涂装面积的计算方法，其特征在于，所述光照场景中设置有一个散射光源，所述BIM三维结构模型在所述光照场景中匀速自转。

5.如权利要求1所述的涂装面积的计算方法，其特征在于，所述光照场景中设置有多个散射光源，所述多个散射光源对BIM三维结构模型形成包围。

6.一种涂装面积的计算装置，其特征在于，所述涂装面积的计算装置包括：

构建模块：用于建立待计算结构体的BIM三维结构模型，其中所述BIM三维结构模型的材质为漫反射材质；

放置模块：用于将所述BIM三维结构模型置于光照场景，在所述光照场景中BIM三维结构模型外表面均被散射光源照射；

读取模块：用于读取所述BIM三维结构模型每个面上的散射光源的光照强度；

计算模块：用于根据所述光照强度计算得到BIM三维结构模型的第一涂装类型面积、第二涂装类型面积以及第三涂装类型面积。

7.如权利要求6所述的涂装面积的计算装置，其特征在于，计算模块，具体用于：

计算光照强度为零的面的面积之和，得到第一涂装类型面积；

计算光照强度大于阈值的面的面积之和，得到第二涂装类型面积；

计算光照强度小于或等于阈值且大于零的面的面积之和，得到第三涂装类型面积。

8.如权利要求6所述的涂装面积的计算装置，其特征在于，涂装面积的计算装置还包括确定模块，用于：

根据第一涂装类型面积、第二涂装类型面积以及第三涂装类型面积确定涂装材料的需求量。

9.一种涂装面积的计算设备，其特征在于，所述涂装面积的计算设备包括处理器、存储器、以及存储在所述存储器上并可被所述处理器执行的涂装面积的计算程序，其中所述涂装面积的计算程序被所述处理器执行时，实现如权利要求1至5中任一项所述的涂装面积的计算方法的步骤。

10.一种可读存储介质，其特征在于，所述可读存储介质上存储有涂装面积的计算程序，其中所述涂装面积的计算程序被处理器执行时，实现如权利要求1至5中任一项所述的涂装面积的计算方法的步骤。