[发明专利]获取光栅结构数据的方法、装置及可读存储介质

说明书

本公开涉及一种获取光栅结构数据的方法、装置及可读存储介质，该方法包括：获取待测光栅的第一衍射效率数据，其中，所述第一衍射效率数据通过检测得到；根据目标模型和所述第一衍射效率数据，获得所述待测光栅的第一光栅结构数据；其中，所述目标模型为根据设定光栅的第二光栅结构数据和第二衍射效率数据对设定模型的模型参数进行调整所得到的模型，所述待测光栅和所述设定光栅的光栅类型相同，所述第二光栅结构数据和所述第二衍射效率数据均通过检测得到，根据所述第二光栅结构数据和所述目标模型获得的衍射效率数据与所述第二衍射效率数据符合设定匹配要求。

技术领域

本公开实施例涉及光学技术领域，更具体地，涉及一种获取光栅结构数据的方法、装置及可读存储介质。

背景技术

在纳米制造工艺过程中，对纳米结构产品(比如光栅)的几何特征参数进行精确表征具有重要意义。

目前，在模型训练阶段，可以结合光栅的设计结构数据和实测衍射效率数据来训练模型。进而在产品测试阶段，可以基于该模型及待测光栅的实测衍射效率数据，以得到待测光栅的光栅结构数据。

但是这一实现方式并没有考虑实际加工误差，使得所获得光栅结构数据的准确率不高。

发明内容

本公开实施例的一个目的是提供一种获取光栅结构数据的新的技术方案。

根据本公开的第一方面，提供了一种获取光栅结构数据的方法，包括：获取待测光栅的第一衍射效率数据，其中，所述第一衍射效率数据通过检测得到；根据目标模型和所述第一衍射效率数据，获得所述待测光栅的第一光栅结构数据；其中，所述目标模型为根据设定光栅的第二光栅结构数据和第二衍射效率数据对设定模型的模型参数进行调整所得到的模型，所述待测光栅和所述设定光栅的光栅类型相同，所述第二光栅结构数据和所述第二衍射效率数据均通过检测得到，根据所述第二光栅结构数据和所述目标模型获得的衍射效率数据与所述第二衍射效率数据符合设定匹配要求。

可选地，在所述根据目标模型和所述第一衍射效率数据，获得所述待测光栅的第一光栅结构数据之前，所述方法还包括：根据所述第二光栅结构数据和所述设定模型获得第三衍射效率数据；检测所述第三衍射效率数据与所述第二衍射效率数据是否符合所述设定匹配要求，得到检测结果；根据所述检测结果和所述设定模型，获得所述目标模型。

可选地，所述根据所述检测结果和所述设定模型，获得所述目标模型，包括：在所述检测结果表示所述第三衍射效率数据与所述第二衍射效率数据不符合所述设定匹配要求的情况下，对所述设定模型的模型参数进行调整得到第二模型，并以所述第二模型作为所述设定模型，再次执行所述根据所述第二光栅结构数据和所述设定模型获得第三衍射效率数据的步骤；在所述检测结果表示所述第三衍射效率数据与所述第二衍射效率数据符合所述设定匹配要求的情况下，以所述设定模型作为所述目标模型。

可选地，所述获取待测光栅的第一衍射效率数据，包括：通过控制光谱仪的探测装置的位置变化，获得所述待测光栅的不同角度衍射光生成的光谱数据；根据所述光谱数据，获取所述不同角度下的光栅衍射效率数据，作为所述第一衍射效率数据。

可选地，所述第二光栅结构数据通过原子力显微镜、扫描电子显微镜、透射电子显微镜中的任意一种检测得到。

可选地，所述光栅类型为闪耀光栅、二元光栅、倾斜光栅中的任意一种。

可选地，所述第一光栅结构数据和所述第二光栅结构数据均包括：光栅结构参数、用于指示光栅缺陷情况的数据、用于指示光栅基底和结构层材料光学特性的数据中的至少一种。