[发明专利]微晶玻璃及其制备方法、玻璃保护层、玻璃盖板与电子器件

权利要求书

1.一种微晶玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

以质量百分数计，所述微晶玻璃的原料包括55%~65%的SiO₂、19.5%~29%的Al₂O₃、2%~10%的Li₂O、4%~15%的Na₂O、1%~6%的K₂O、0.1%～3%的B₂O₃、0.1%~4%的ZrO₂、0.5%~4%的MgO、0.5%~3%的ZnO与0.5%~3%的P₂O₅，混合所述微晶玻璃的原料，成型后进行核化处理与晶化处理，制备玻璃预制件；

将所述玻璃预制件进行第一次钢化与第二次钢化；其中，第一次钢化与第二次钢化采用的钢化盐分别独立地选自钠盐和钾盐中的至少一种；

核化处理的温度为560℃~590℃，核化处理的时间为2h~9h；

晶化处理包括第一次晶化与第二次晶化，第一次晶化的温度为590℃~640℃，第一次晶化结束后升温，进行第二次晶化，第二次晶化的温度为670℃~730℃；

所述微晶玻璃的压力层深度大于130微米。

2.根据权利要求1所述的微晶玻璃的制备方法，其特征在于，以质量百分数计，所述微晶玻璃的原料包括55%~57%的SiO₂、20%~27%的Al₂O₃、3%~7%的Li₂O、5%~9%的Na₂O、1%~2%的K₂O、1%～2%的B₂O₃、0.5%~1.5%的ZrO₂、0.5%~1.5%的MgO、0.5%~1%的ZnO与1.5%~3%的P₂O₅。

3.根据权利要求1~2任一项所述的微晶玻璃的制备方法，其特征在于，所述微晶玻璃包括晶体相和玻璃相，所述晶体相中的晶体尺寸为30nm~60nm。

4.根据权利要求1所述的微晶玻璃的制备方法，其特征在于，第一次晶化的时间为2h~6h；第二次晶化的时间为1h~3h。

5.根据权利要求1~2及4任一项所述的微晶玻璃的制备方法，其特征在于，第一次钢化的温度为450℃~540℃，第一次钢化的时间为4h~8h。

6.根据权利要求1~2及4任一项所述的微晶玻璃的制备方法，其特征在于，第二次钢化的温度为420℃~440℃，第二次钢化的时间为1h~4h。

7.根据权利要求1~2及4任一项所述的微晶玻璃的制备方法，其特征在于，第一次钢化采用的钢化盐为NaNO₃和KNO₃的混合物，其中NaNO₃质量浓度大于20%。

8.根据权利要求1~2及4任一项所述的微晶玻璃的制备方法，其特征在于，第二次钢化采用的钢化盐为NaNO₃和KNO₃的混合物，其中KNO₃质量浓度大于80%。

9.一种微晶玻璃，其特征在于，由权利要求1~8任一项所述的微晶玻璃的制备方法制备得到。

10.一种玻璃保护层，其特征在于，包括权利要求9所述的微晶玻璃。

11.一种玻璃盖板，其特征在于，包括权利要求9所述的微晶玻璃。

12.一种电子器件，其特征在于，以权利要求9所述的微晶玻璃作为玻璃盖板。