[发明专利]一种纳米多级孔SAPO-11分子筛及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种纳米多级孔SAPO-11分子筛，其特征在于：

（1）所述纳米多级孔SAPO-11分子筛的粒径为50~1000 nm；

（2）所述纳米多级孔SAPO-11分子筛含有微孔和介孔结构，比表面积为1340~1500 m²/g，总孔体积为1.525~1.764 cm³/g，介孔孔径为55~70 nm，且介孔体积/微孔体积比为1~5：1；

（3）所述纳米多级孔SAPO-11分子筛的Al/P比为0.03~30；

所述纳米多级孔SAPO-11分子筛采用水热法合成，其制备过程包括：将水、磷源、铝源、模板剂、表面活性剂、硅源作为原料按比例混合均匀，经陈化、晶化、加氟再晶化、洗涤、分离、干燥、煅烧，最终得到纳米多级孔SAPO-11分子筛；

所述磷源至少含有磷酸、磷酸钠、磷酸氢钠、磷酸钾、磷酸氢钾、磷酸铵和磷酸氢铵中的一种；所述铝源至少含有拟薄水铝石、异丙醇铝、偏铝酸钠、氢氧化铝、三氯化铝、氧化铝、硫酸铝和硝酸铝中的一种；所述模板剂至少含有二正丙胺、二异丙胺、乙二胺中的一种；所述表面活性剂至少含有异丙醇、乙二醇、聚乙烯醇和甘油中的一种；所述硅源至少含有硅溶胶、正硅酸甲酯、正硅酸丙酯、正硅酸四乙酯、白炭黑、高岭土、蒙脱土、硅酸钠、粉煤灰和水玻璃中的一种；氟源至少含有氢氟酸，氟化钠，氟化钾，氟化铝，氟化钙，氟化钡，氟化铯中的一种；

按水：磷源：铝源：氟源：表面活性剂：硅源：模板剂=(25~500)：(0.1~3.0)：(0.1~3.0)：(0.05~3)：(0.01~3)：(0.1~3.5)：(0.1~5.0)的摩尔比进行配制；

晶化过程采用分段晶化；按顺序依次加入：水、磷源、铝源、表面活性剂、硅源、模板剂，在温度为10 ~40 ℃下陈化0.1~24 h；在165~185 ℃预晶化1~120 h，晶化结束后取出并加入氟源搅拌均匀，再在50~120 ℃下晶化1~120 h；所述干燥的温度为20 ~300 ℃、时间为0.1~48 h；所述煅烧的温度为350~700 ℃、时间为1~20 h。

2.根据权利要求1所述的一种纳米多级孔SAPO-11分子筛，其特征在于：所述纳米多级孔SAPO-11分子筛的粒径为100~800 nm；所述纳米多级孔SAPO-11分子筛比表面积为1340~1450 m²/g，所述纳米多级孔SAPO-11分子筛总孔体积为1.56~1.725 cm³/g，介孔孔径为60~70 nm，介孔体积/微孔体积比为1.33~4.45。

3.根据权利要求1所述的纳米多级孔SAPO-11分子筛的制备方法，其特征在于：所述分子筛采用水热法合成，其制备过程包括将水、磷源、铝源、模板剂、表面活性剂、硅源作为原料按比例混合均匀，经陈化、晶化、加氟再晶化、洗涤、分离、干燥、煅烧，最终得到纳米多级孔SAPO-11分子筛；

所述磷源至少含有磷酸、磷酸钠、磷酸氢钠、磷酸钾、磷酸氢钾、磷酸铵和磷酸氢铵中的一种；所述铝源至少含有拟薄水铝石、异丙醇铝、偏铝酸钠、氢氧化铝、三氯化铝、氧化铝、硫酸铝和硝酸铝中的一种；所述模板剂至少含有二正丙胺、二异丙胺、乙二胺中的一种；所述表面活性剂至少含有异丙醇、乙二醇、聚乙烯醇和甘油中的一种；所述硅源至少含有硅溶胶、正硅酸甲酯、正硅酸丙酯、正硅酸四乙酯、白炭黑、高岭土、蒙脱土、硅酸钠、粉煤灰和水玻璃中的一种；氟源至少含有氢氟酸，氟化钠，氟化钾，氟化铝，氟化钙，氟化钡，氟化铯中的一种；

按水：磷源：铝源：氟源：表面活性剂：硅源：模板剂=(25~500)：(0.1~3.0)：(0.1~3.0)：(0.05~3)：(0.01~3)：(0.1~3.5)：(0.1~5.0)的摩尔比进行配制；

晶化过程采用分段晶化；按顺序依次加入：水、磷源、铝源、表面活性剂、硅源、模板剂，在温度为10 ~40 ℃下陈化0.1~24 h；在165~185 ℃预晶化1~120 h，晶化结束后取出并加入氟源搅拌均匀，再在50~120 ℃下晶化1~120 h；所述干燥的温度为20 ~300 ℃、时间为0.1~48 h；所述煅烧的温度为350~700 ℃、时间为1~20 h。