[发明专利]一种用于化学机械抛光的承载头和抛光设备

权利要求书

1.一种用于化学机械抛光的承载头，其特征在于，包括主体部及保持环，所述主体部的底部配置有基座，所述保持环通过连接结构固定于所述基座；所述连接结构包括固定螺钉、限位环和连接螺钉；保持环设置于承载头的基座的底部，其通过固定螺钉连接于基座；所述限位环为环状结构，其通过连接螺钉固定于所述基座的顶部；所述限位环罩设于所述基座的上侧，其底面抵压于所述保持环的顶面；所述限位环对保持环的抵压力产生相对于所述连接螺钉的偏转力矩，使得保持环的底面形成沿径向的高度差。

2.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述限位环包括限位环主体和沿限位环主体的外沿向下延伸设置的外侧板，所述外侧板的底面抵压于所述保持环的顶面。

3.如权利要求2所述的承载头，其特征在于，所述外侧板的底面抵压于所述保持环的顶面外侧，所述保持环的承压区域为环状结构且低于保持环其他区域的高度，以形成环状的凹部。

4.如权利要求3所述的承载头，其特征在于，所述保持环的承压区域较其他区域低0.005mm-0.5mm。

5.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，还包括第一调节圈，其卡接于所述限位环与所述保持环之间，所述第一调节圈对保持环的作用力产生相对于所述连接螺钉的偏转力矩，使得保持环的底面形成沿径向的高度差。

6.如权利要求5所述的承载头，其特征在于，所述第一调节圈的硬度HRC为20-100。

7.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述限位环的底面抵压于所述保持环顶面的内侧和/或外侧。

8.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，还包括第二调节圈，其设置于所述保持环与所述基座之间并位于所述固定螺钉的内侧和/或外侧，第二调节圈对保持环的作用力产生相对于所述固定螺钉的偏转力矩，使得保持环的底面形成沿径向的高度差。

9.如权利要求3所述的承载头，其特征在于，所述外侧板的底面为斜面，所述凹部的顶面与外侧板的底面匹配设置。

10.一种抛光设备，其特征在于，包括权利要求1至9任一项所述的承载头。