[发明专利]对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法

权利要求书

1.一种对准装置，为了进行基板和掩模的位置对齐而进行对准标记的检测和位置的测量，其特征在于，

该对准装置包括：

对准测量位置信息存储部，存储与基板的对准测量位置相关的信息；以及

测量部，根据基于与上述对准测量位置相关的信息获得的基板和掩模的对准标记的图像，测量基板与掩模的相对的偏移，

与上述对准测量位置相关的信息包括在基板的至少一部分与掩模接触的状态下进行的对准工序中的与基板的位置相关的信息。

2.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

上述对准测量位置根据通过基板的识别编号确认的基板的种类而被设定成不同。

3.根据权利要求2所述的对准装置，其特征在于，

上述对准测量位置信息存储部以关联表的形式存储与基板的识别编号、基板的种类和该基板的对准测量位置相关的信息。

4.根据权利要求3所述的对准装置，其特征在于，

上述关联表还包括上述对准工序中的与照度、快门速度和照相机的高度相关的信息中的至少一个。

5.根据权利要求2所述的对准装置，其特征在于，

上述基板的种类包括与是否是生产用基板相关的信息。

6.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

上述对准测量位置根据通过基板的识别编号确认的基板的种类和通过掩模的识别编号确认的掩模的种类而被设定成不同。

7.根据权利要求6所述的对准装置，其特征在于，

上述对准测量位置信息存储部以关联表的形式存储基板的识别编号、掩模的识别编号、基板的种类、掩模的种类和该基板的对准测量位置。

8.根据权利要求7所述的对准装置，其特征在于，

上述关联表还包括上述对准工序中的与照度、快门速度和照相机的高度相关的信息中的至少一个。

9.根据权利要求6所述的对准装置，其特征在于，

上述基板的种类包括与是否是生产用基板相关的信息，上述掩模的种类包括与掩模的厚度相关的信息。

10.一种成膜装置，用于经由掩模在基板上成膜蒸镀物质，其特征在于，

该成膜装置包括：

对准测量位置信息存储部，存储基板的对准测量位置信息；以及

控制部，基于从上述对准测量位置信息存储部读取出的上述对准测量位置信息，对成膜装置进行控制，

上述对准测量位置信息包括在基板的至少一部分与掩模接触的状态下进行的对准工序中的与基板的位置相关的信息。

11.根据权利要求10所述的成膜装置，其特征在于，

上述对准测量位置根据通过基板的识别编号确认的基板的种类而被设定成不同。

12.根据权利要求11所述的成膜装置，其特征在于，

上述对准测量位置信息存储部以关联表的形式存储与基板的识别编号、基板的种类和该基板的上述对准测量位置相关的信息。

13.根据权利要求12所述的成膜装置，其特征在于，

上述关联表还包括上述对准工序中的与照度、快门速度和照相机的高度相关的信息中的至少一个。

14.根据权利要求11所述的成膜装置，其特征在于，

上述基板的种类包括与是否是生产用基板相关的信息。

15.根据权利要求10所述的成膜装置，其特征在于，

上述对准测量位置根据通过基板的识别编号确认的基板的种类和通过掩模的识别编号确认的掩模的种类而被设定成不同。