[发明专利]量子点光转换膜及其制备方法

权利要求书

1.一种量子点光转换膜，包括透明多孔基板、量子点、第一阻隔膜和第二阻隔膜，其中，所述量子点填充在所述透明多孔基板中；所述第一阻隔膜与所述第二阻隔膜分别贴合所述透明多孔基板的上表面和下表面；所述量子点通过喷墨打印填充在所述透明多孔基板中。

2.根据权利要求1所述的量子点光转换膜，其特征在于：所述量子点包括第一发光波长的量子点和第二发光波长的量子点，所述第一发光波长大于第二发光波长。

3.根据权利要求1所述的量子点光转换膜，其特征在于：所述透明多孔基板上设置有多个贯穿其上表面和下表面的通孔，所述量子点填充在所述通孔中。

4.根据权利要求3所述的量子点光转换膜，其特征在于：所述通孔的内表面对可见光具有高反射性。

5.根据权利要求2所述的量子点光转换膜，其特征在于：所述量子点在所述透明多孔基板上形成像素图案，每一像素图案填充有第一发光波长的量子点或者第二发光波长的量子点。

6.根据权利要求5所述的量子点光转换膜，其特征在于：所述透明多孔基板和所述第一阻隔膜之间还设置有一光刻胶层，所述光刻胶层的刻蚀图案对应所述像素图案。

7.根据权利要求1所述的量子点光转换膜，其特征在于：所述透明多孔基板还包括基质材料，所述基质材料包括玻璃、金属、金属氧化物、半导体或者聚合物中的至少一种。

8.一种量子点光转换膜的制备方法，所述方法包括：

S1、提供一第一阻隔膜，所述第一阻隔膜上设置有透明多孔基板；

S2、提供量子点墨水，所述量子点墨水包含具有非极性部分的有机溶剂和量子点；

S3、将量子点墨水打印在透明多孔基板的上表面；

S4、将第二阻隔膜贴合在填充有量子点的透明多孔基板的上表面。

9.根据权利要求8所述的量子点光转换膜的制备方法，其特征在于：步骤S1中的所述透明多孔基板上设置有一光刻胶层，所述光刻胶层具有刻蚀图案；所述量子点通过喷墨打印填充在所述刻蚀图案内的所述透明多孔基板中，以形成像素图案。

10.根据权利要求9所述的量子点光转换膜的制备方法，其特征在于：

在步骤S3和步骤S4之间，设置步骤将所述光刻胶层除去。