[发明专利]一种可用于拍摄天空蓝的消光片结构及其方法

说明书

本发明公开了一种可用于拍摄天空蓝的消光片结构及其方法，通过采用透过率为55％～70％之间，偏光度为70％～90％之间的偏光片，能够有效避免反光给拍摄带来的不利影响，摄影时可使摄影原画的对比鲜明，色彩饱和，使拍摄的天空更蓝、更漂亮、更亮眼；通过溶胶凝胶法在第一光学玻璃层表面和第二光学玻璃层表面制备一层具有纳米级柱状矩阵的界面活性剂层，该界面活性剂层的纳米柱之间间隔设置，可以减少相邻叠放的两个偏光片结构表面之间的接触面积，再配合界面活性剂的作用，进一步减少相邻叠放的两个偏光片结构之间粘片现象的发生，即使不能完全消除粘片现象，也能减小粘片的程度，使后期需要分开安装时省时省力，不会损坏偏光片结构。

技术领域

本发明涉及光学元件技术领域，尤其涉及的是一种可用于拍摄天空蓝的消光片结构及其方法。

背景技术

消光片，又称滤光片，是用来选取所需辐射波段的光学器件。在相机中，而为了能够有效避免反光给拍摄带来的不利影响，一般会在相机中设置偏光片结构。而现有的相机中的消光片结构设置不合理，导致影响拍摄天空蓝的效果，不能满足使用要求。而且消光片结构在安装前是会叠放在一起的，而上下相邻叠放的两个消光片结构表面之间的空气吸收空气中的水分之后，平滑地填补了表面之间的空隙，使得两张消光片结构之间形成了真空状态，出现粘片现象，在后期需要分开安装时会导致不宜分离，分离操作费时费力，而且容易损坏消光片结构。

因此，现有的技术还有待于改进和发展。

发明内容

本发明的目的在于提供一种可用于拍摄天空蓝的消光片结构及其方法，旨在解决现有技术中存在的一个或多个问题。

本发明的技术方案如下：

本技术方案提供一种可用于拍摄天空蓝的消光片结构，包括由上到下依次包括第一光学玻璃层、第一光学胶层、四分之一玻片、第二光学胶层、偏光片、第三光学胶层和第二光学玻璃层，所述偏光片的透过率为55％～70％之间，偏光度为70％～90％之间。

进一步地，所述偏光片包括由上到下依次设置的第一外保护膜层、第一压敏胶层、第一内保护膜层、偏振膜层、第二内保护膜层、第二压敏胶层和第二外保护膜层，所述第一外保护膜层与所述第二光学胶层粘接，所述第二外保护膜层与所述第三光学胶层粘接。

进一步地，所述第一内保护膜层和所述第二内保护膜层采用TAC薄膜保护层。

进一步地，所述第一光学胶层、第二光学胶层和第三光学胶层均采用PSA胶粘层。

进一步地，所述偏振膜层通过具有网状结构的高分子化合物聚乙烯醇薄膜作为基片，再浸染具有强烈二向色性的碘，经硼酸水溶液还原稳定后，再将其单向拉伸4～5倍制成。

进一步地，还包括分别在所述第一光学玻璃层上和第二光学玻璃层上设置一层界面活性剂层，所述界面活性剂层通过溶胶凝胶法形成一层纳米级柱状矩阵覆盖在所述第一光学玻璃层上和第二光学玻璃层上。

进一步地，所述界面活性剂层厚度为5-20μm。

进一步地，所述界面活性剂层包括硅源化合物、有机硅修饰剂、强碱物质，将硅源化合物加入水解介质中，搅拌均匀形成水解体系；在搅拌条件下，调节得到的水解体系的pH使硅源化合物发生水解，并在调节pH时加入有机硅修饰剂，搅拌得到表面改性纳米二氧化硅的分散液；向得到的分散液中加入强碱物质，形成反应体系；将得到的反应体系持续搅拌即得分散于溶液中的二氧化硅纳米表面活性剂；其中，硅源化合物的加入量以二氧化硅计，水解体系中含二氧化硅的浓度为0.1～4.0mol/L，二氧化硅、有机硅修饰剂及强碱物质的摩尔比为1：0.05～1：0.5～3。

本技术方案还提供一种如上述任一所述的可用于拍摄天空蓝的消光片结构的制备方法，具体包括以下步骤：

S1：在偏光片的两面分别粘接第二光学胶层和第三光学胶层；