[发明专利]一种覆铜板铜箔生产电解设备

说明书

本发明涉及铜箔生产技术领域，具体涉及一种覆铜板铜箔生产电解设备，包括溶铜箱、进料机构、进水机构、输送机构和搅拌机构，所述的溶铜箱内安装有进料机构，溶铜箱左侧安装有进水机构，溶铜箱右侧安装有输送机构和搅拌机构，本发明可以解决硫酸铜溶液制备时存在以下难题，一、由于硫酸在稀释时会发生迸溅，并且需要人工使用工具进行搅拌处理，使得人工稀释硫酸的危险性较大；二、人工不能将铜料均匀的加入到硫酸内，减少了铜料和硫酸的接触面积，影响硫酸和铜料的反应速度，并且人工将铜料加入到硫酸内的劳动强度大，使得铜料输送的效率低下，影响硫酸铜溶液的反应效率。

技术领域

本发明涉及铜箔生产技术领域，特别涉及一种覆铜板铜箔生产电解设备。

背景技术

电解铜箔是覆铜板(CCL)及印制电路板(PCB)、锂离子电池制造的重要的材料。在当今电子信息产业高速发展中，电解铜箔被称为电子产品信号与电力传输、沟通的“神经网络”。覆铜板铜箔的生产工序较为简单，主要工序有三道：溶液生箔、表面处理和产品分切，溶液生箔是将铜料输送到硫酸内进行化学反应后，得到硫酸铜溶液，再经过电解得到覆铜板铜箔。

然而目前在硫酸铜溶液制备时存在以下难题，一、由于硫酸在稀释时会发生迸溅，并且需要人工使用工具进行搅拌处理，使得人工稀释硫酸的危险性较大；二、人工不能将铜料均匀的加入到硫酸内，减少了铜料和硫酸的接触面积，影响硫酸和铜料的反应速度，并且人工将铜料加入到硫酸内的劳动强度大，使得铜料输送的效率低下，影响硫酸铜溶液的反应效率。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种覆铜板铜箔生产电解设备，包括溶铜箱、进料机构、进水机构、输送机构和搅拌机构，所述的溶铜箱内安装有进料机构，溶铜箱左侧安装有进水机构，溶铜箱右侧安装有输送机构和搅拌机构。

所述的进料机构包括密封板、方块、进料板、进料管、分料板、出料管、平板、进料电机、椭圆板、滑动板和滑动圆杆，所述的溶铜箱内壁中部安装有密封板，溶铜箱前后两端内壁中部且位于密封板上侧对称安装有方块，方块之间通过进料板相连接，进料板上端中部安装有进料管，进料板上侧中部开设有分料槽，分料槽左侧内壁中心位置开设有通孔，分料槽下端左右两侧对称开设有进料槽，分料槽内通过滑动配合的方式安装有分料板，分料板上左右两侧对称开设有通槽，且进料槽和通槽相互配合使用，分料板左端中心位置安装有滑动板，且滑动板通过滑动配合的方式安装在通孔内，滑动板上端左侧安装有滑动圆杆，进料板下端位于进料槽位置处安装有出料管，且出料管均贯穿密封板，分料板左端且位于通槽上侧安装有平板，平板上安装有进料电机，进料电机输出端贯穿平板安装有椭圆板，椭圆板下端开设有椭圆槽，且椭圆槽内通过滑动配合的方式安装有滑动圆杆，能够对铜料进行分批次输送作业。

所述的输送机构包括输送弯管、漏斗圆管、圆盖板、分液管、排液管和防溅弯板，所述的溶铜箱右侧安装有输送弯管，输送弯管上端且位于溶铜箱外侧安装有漏斗圆管，漏斗圆管上端通过螺纹配合的方式安装有圆盖板，输送弯管下端且位于溶铜箱内部安装有半圆状的分液管，分液管右端外壁下侧从前至后均匀安装有多个排液管，且排液管抵紧在溶铜箱右端内壁上，排液管下端安装有防溅弯板，能够对硫酸进行稳定的输送作业。

作为本发明的一种优选技术方案，所述的进水机构包括承托板、水箱、水泵和U状进水管，所述的溶铜箱左端外壁下侧安装有承托板，承托板上安装有水箱，水箱内安装有水泵，溶铜箱左端和水箱右侧共同安装有开口朝下的U状进水管，水泵输出端连接在U状进水管左端，U状进水管右端且贯穿密封板，能够对溶铜箱加入适量的清水。

作为本发明的一种优选技术方案，所述的搅拌机构包括顶板、搅拌电机、传动圆杆和搅拌板，所述的溶铜箱右端内壁上侧安装有顶板，顶板下端安装有搅拌电机，密封板上通过转动配合的方式安装有传动圆杆，传动圆杆上端连接在搅拌电机输出端，搅拌圆杆外壁下侧沿其周向方向从上至下均匀安装有多个搅拌板，能够对硫酸和清水反应时进行搅拌作业，提高了硫酸的稀释速率。

作为本发明的一种优选技术方案，所述的溶铜箱后端下侧设置有出液管，能够对硫酸铜溶液进行出料作业。