[发明专利]像素结构及其制备方法和显示面板

权利要求书

1.一种像素结构的制备方法，所述像素结构包括衬底，其特征在于，所述制备方法包括：

在衬底(10)上沉积出发光材料定义层(104)；

在所述发光材料定义层(104)中蚀刻出第一发光材料腔体(11)和第二发光材料腔体(12)，所述第一发光材料腔体(11)与所述第二发光材料腔体(12)之间通过连通通道(13)连通；

向所述第一发光材料腔体(11)中喷涂发光材料，以形成第一发光材料层(5)；

检测所述第一发光材料腔体(11)中的发光材料是否经由所述连通通道(13)溢出到所述第二发光材料腔体(12)中形成第二发光材料层(6)；

当所述第二发光材料腔体(12)中形成第二发光材料层(6)时，停止向第一发光材料腔体(11)中喷涂发光材料；

在所述发光材料定义层(104)、所述第一发光材料层(5)和所述第二发光材料层(6)沉积出绝缘层的电子传输定义层(105)；

在所述电子传输定义层(105)中蚀刻出电子传输腔体，使得所述第一发光材料层(5)的靠近所述电子传输定义层(105)的表面露置于所述电子传输腔体中；

在所述电子传输腔体中沉积出电子传输层(7)；

在所述电子传输定义层(105)和所述电子传输层(7)沉积出绝缘层的阴极定义层(106)；

在所述阴极定义层(106)中蚀刻出阴极腔体，使得所述电子传输层(7)的靠近所述阴极定义层(106)的表面露置于所述阴极腔体中；

在所述阴极腔体中沉积出阴极层(8)；

在所述阴极定义层(106)和所述阴极层(8)沉积出封装层(9)。

2.如权利要求1所述的像素结构的制备方法，其特征在于，所述连通通道(13)具有第一宽度，所述向所述第一发光材料腔体(11)中喷涂发光材料，以形成第一发光材料层(5)，包括：

以第一速率向所述第一发光材料腔体(11)中喷涂红色发光材料，以形成第一厚度的第一发光材料层(5)；

或者，所述连通通道(13)具有第二宽度，所述向所述第一发光材料腔体(11)中喷涂发光材料，以形成第一发光材料层(5)，包括：

以第二速率向所述第一发光材料腔体(11)中喷涂绿色发光材料，以形成第二厚度的第一发光材料层(5)；

或者，所述连通通道(13)具有第三宽度，所述向所述第一发光材料腔体(11)中喷涂发光材料，以形成第一发光材料层(5)，包括：

以第三速率向所述第一发光材料腔体(11)中喷涂蓝色发光材料，以形成第三厚度的第一发光材料层(5)；

其中，所述第一宽度、所述第二宽度和所述第三宽度之间的大小关系为：所述第三宽度＞所述第一宽度＞所述第二宽度；

所述第一厚度、所述第二厚度和所述第三厚度之间的大小关系为：所述第三厚度＞所述第一厚度＞所述第二厚度。

3.如权利要求2所述的像素结构的制备方法，其特征在于，所述第一厚度、所述第二厚度和所述第三厚度的大小范围为0.5nm~200nm。