[发明专利]一种古斯汉欣位移放大器、制备方法及其放大方法在审

专利信息
申请号: 202111287740.4 申请日: 2021-11-02
公开(公告)号: CN114111588A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 李波瑶;林钰培;孙敬华 申请(专利权)人: 东莞理工学院
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02;G02B5/04
代理公司: 广州容大知识产权代理事务所(普通合伙) 44326 代理人: 潘素云
地址: 523000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 古斯汉欣 位移 放大器 制备 方法 及其 放大
【权利要求书】:

1.一种古斯汉欣位移放大器,其特征在于,包括上下两种不同折射率的介质;上层介质为透光的玻璃棱镜,下层介质为GH位移产生装置;

在上层玻璃棱镜的右端刻下凹面,所述凹面朝向位移放大器的径斜向右上方,凹面的尺寸不超过整块玻璃棱镜的50%,位于位移放大器的右端。

2.根据权利要求1所述的古斯汉欣位移放大器,其特征在于,所述GH位移产生装置为不透光的金属薄片;所述金属薄片的厚度为30-70nm;所述金属薄片的材质为金、铜或镍;所述玻璃棱镜的材质选择折射率为1.47的硼硅酸盐玻璃或者折射率为1.458的石英玻璃;所述玻璃棱镜的底长度为40-100mm;所述玻璃棱镜的底宽度为20-50mm;所述玻璃棱镜的高为20-50mm;所述凹面的曲率半径为25-200mm。

3.一种古斯汉欣位移放大器,其特征在于,包括上下两种不同折射率的介质;上层介质为透光的玻璃薄片,下层介质为GH位移产生装置;

在上层玻璃薄片的右端刻下凹面;所述凹面朝向位移放大器的径向上方,凹面的尺寸不超过整块玻璃薄片的50%,位于位移放大器的右端。

4.根据权利要求3所述的古斯汉欣位移放大器,其特征在于,所述玻璃薄片的材质选择折射率为1.47的硼硅酸盐玻璃或者折射率为1.458的石英玻璃;所述玻璃薄片的底长度为40-100mm,所述玻璃薄片的底宽度为20-50mm,所述玻璃薄片的厚度为1-50mm;所述凹面的曲率半径为25-5000mm。

5.一种古斯汉欣位移放大器,其特征在于,包括上下两种不同折射率的介质;上层介质为透光的玻璃薄片,下层介质为GH位移产生装置;

在上层玻璃薄片从左上端到右下端刻下凹面;所述凹面朝向位移放大器的径向上方,位于位移放大器的右上端。

6.根据权利要求5所述的古斯汉欣位移放大器,其特征在于,所述玻璃薄片的材质选择折射率为1.47的硼硅酸盐玻璃或者折射率为1.458的石英玻璃;所述玻璃薄片的底长度为20-100mm,所述玻璃薄片的底宽度为20-50mm,所述玻璃薄片的厚度为1-50mm;所述凹面的曲率半径为0.5-5000mm。

7.根据权利要求5所述的古斯汉欣位移放大器,其特征在于,所述GH位移产生装置为石墨烯层,所述石墨烯层下底面连接有介电材料衬底。

8.根据权利要求6所述的古斯汉欣位移放大器,其特征在于,所述玻璃薄片的材质选择折射率为1.47的硼硅酸盐玻璃或者折射率为1.458的石英玻璃;所述玻璃薄片的底长度为20-100mm;所述玻璃薄片的底宽度为20-50mm;所述玻璃薄片的厚度为1-50mm;所述凹面的曲率半径为0.5-5000mm;所述石墨烯层的层数为1-20层;所述介电材料衬底的厚度为1-20mm。

9.一种如权利要求1-8任一所述的古斯汉欣位移放大器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1、将玻璃棱镜或玻璃薄片右端通过毛坯,粗磨加工成凹面;

步骤2、对凹面进行进一步的细磨,抛光等工序;

步骤3、通过磁控溅射对玻璃棱镜或玻璃薄片的下层进行镀膜。

10.一种古斯汉欣位移放大方法,其特征在于,采用如权利要求1-8任一所述的古斯汉欣位移放大器,包括以下步骤:

当光进入玻璃棱镜或玻璃薄片中传播时,接触到GH位移产生装置的薄层将会产生反射光;由于光在GH位移产生装置的表面反射时表面发生等离子体共振,将大大增加古斯汉欣位移,同时光在反射后将再次经过结构的凹面,从而将古斯汉欣位移再次进行放大。

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