[发明专利]一种基于Bi2 在审
| 申请号: | 202111281360.X | 申请日: | 2021-11-01 |
| 公开(公告)号: | CN114141813A | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
| 发明(设计)人: | 贺明;蔡其峰;刘鋆灵;谭聪伟;彭海琳;黎明;张兴;黄如 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
| 主分类号: | H01L27/16 | 分类号: | H01L27/16;G01D21/02 |
| 代理公司: | 北京万象新悦知识产权代理有限公司 11360 | 代理人: | 李稚婷 |
| 地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基于 bi base sub | ||
1.一种多模态感存算一体系统,包括多个集成在一起的基于Bi2O2Se的场效应晶体管,所述基于Bi2O2Se的场效应晶体管以二维半导体材料Bi2O2Se作为有效层沟道,具有多模态传感特性、多模态突触可塑性和非线性抑制神经元特性;将所述基于Bi2O2Se的场效应晶体管分别作为传感器、突触器件和神经元器件使用,构建多模态感存算一体系统。
2.如权利要求1所述的多模态感存算一体系统,其特征在于,在多模态感存算一体系统中,外界信号通过传感器以电流形式I传输到突触器件构成的矩阵网络,矩阵网络提供权重值R,然后进行矩阵乘法运算,输出V=I×R,最后进入神经元器件,经过非线性变换输出结果。
3.如权利要求1所述的多模态感存算一体系统,其特征在于,所述传感器包括光传感器和热传感器,所述突触器件包括光突触器件和热突触器件。
4.如权利要求1所述的多模态感存算一体系统,其特征在于,所述基于Bi2O2Se的场效应晶体管为背栅场效应晶体管,包括衬底和位于衬底上的沟道,沟道两端分别为源极和漏极,其中,所述衬底为硅/高k衬底,所述沟道为Bi2O2Se纳米片。
5.如权利要求4所述的多模态感存算一体系统,其特征在于,所述硅/高k衬底是由硅衬底及其上的高k介质层组成的复合衬底,选自硅/氧化铝复合衬底和硅/氧化铪复合衬底;所述Bi2O2Se纳米片的厚度为10~20nm。
6.一种多模态感存算一体系统的实现方法,以二维半导体材料Bi2O2Se作为有效层沟道制备场效应晶体管,并基于该场效应晶体管的多模态传感特性、多模态突触可塑性和非线性抑制神经元特性,分别作为传感器、突触器件和神经元器件使用,将多个所述场效应晶体管集成在一起,构建多模态感存算一体系统。
7.如权利要求6所述的实现方法,其特征在于,外界信号通过传感器以电流形式I传输到突触器件构成的矩阵网络,矩阵网络提供权重值R,然后进行矩阵乘法运算,输出V=I×R,最后进入神经元器件,经过非线性变换输出结果。
8.如权利要求6所述的实现方法,其特征在于,所述传感器包括光传感器和热传感器,所述突触器件包括光突触器件和热突触器件。
9.如权利要求6所述的实现方法,其特征在于,所述场效应晶体管为背栅场效应晶体管,包括衬底和位于衬底上的沟道,沟道两端分别为源极和漏极,其中,所述衬底为硅/高k衬底,所述沟道为Bi2O2Se纳米片。
10.如权利要求8所述的实现方法,其特征在于,对于单个背栅场效应晶体管,根据下述方法实现相应特性:
1)温度传感特性:固定漏端电压Vd,提取关态区的沟道电阻随温度的变化,实现温度传感;
2)光传感特性:固定漏端电压Vd,在器件能够响应的波长范围内,固定光波长和栅极电压Vg,不同光功率密度下器件的输出特性曲线不同,具有光响应性,从而实现光传感;
3)光突触特性:固定漏端电压Vd,固定光波长和光功率密度,固定栅极电压Vg,采用脉冲光进行连续刺激,器件沟道电流长时间衰减不到初始水平,呈现长时程突触可塑性;施加连续的2个脉冲光刺激,第二个脉冲对沟道电流的影响高于第一个脉冲,呈现双脉冲易化特性;
4)热突触特性:固定漏端电压Vd和栅极电压Vg,对器件施加升温脉冲,沟道电流的回复缓慢;施加降温脉冲,每一个脉冲都相较前一个脉冲的沟道电流增加,呈现出热突触特性;
5)抑制神经元特性:固定栅极电压Vg,设置相同频率的漏端电压Vd脉冲信号,不同幅值的脉冲对应不同的电流脉冲发放次数,多次测试的统计性结果呈现出明显的“sigmoid”函数形式,呈现抑制神经元特性。
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