[发明专利]一种基于Bi2在审

专利信息
申请号: 202111281360.X 申请日: 2021-11-01
公开(公告)号: CN114141813A 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 贺明;蔡其峰;刘鋆灵;谭聪伟;彭海琳;黎明;张兴;黄如 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: H01L27/16 分类号: H01L27/16;G01D21/02
代理公司: 北京万象新悦知识产权代理有限公司 11360 代理人: 李稚婷
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 bi base sub
【权利要求书】:

1.一种多模态感存算一体系统,包括多个集成在一起的基于Bi2O2Se的场效应晶体管,所述基于Bi2O2Se的场效应晶体管以二维半导体材料Bi2O2Se作为有效层沟道,具有多模态传感特性、多模态突触可塑性和非线性抑制神经元特性;将所述基于Bi2O2Se的场效应晶体管分别作为传感器、突触器件和神经元器件使用,构建多模态感存算一体系统。

2.如权利要求1所述的多模态感存算一体系统,其特征在于,在多模态感存算一体系统中,外界信号通过传感器以电流形式I传输到突触器件构成的矩阵网络,矩阵网络提供权重值R,然后进行矩阵乘法运算,输出V=I×R,最后进入神经元器件,经过非线性变换输出结果。

3.如权利要求1所述的多模态感存算一体系统,其特征在于,所述传感器包括光传感器和热传感器,所述突触器件包括光突触器件和热突触器件。

4.如权利要求1所述的多模态感存算一体系统,其特征在于,所述基于Bi2O2Se的场效应晶体管为背栅场效应晶体管,包括衬底和位于衬底上的沟道,沟道两端分别为源极和漏极,其中,所述衬底为硅/高k衬底,所述沟道为Bi2O2Se纳米片。

5.如权利要求4所述的多模态感存算一体系统,其特征在于,所述硅/高k衬底是由硅衬底及其上的高k介质层组成的复合衬底,选自硅/氧化铝复合衬底和硅/氧化铪复合衬底;所述Bi2O2Se纳米片的厚度为10~20nm。

6.一种多模态感存算一体系统的实现方法,以二维半导体材料Bi2O2Se作为有效层沟道制备场效应晶体管,并基于该场效应晶体管的多模态传感特性、多模态突触可塑性和非线性抑制神经元特性,分别作为传感器、突触器件和神经元器件使用,将多个所述场效应晶体管集成在一起,构建多模态感存算一体系统。

7.如权利要求6所述的实现方法,其特征在于,外界信号通过传感器以电流形式I传输到突触器件构成的矩阵网络,矩阵网络提供权重值R,然后进行矩阵乘法运算,输出V=I×R,最后进入神经元器件,经过非线性变换输出结果。

8.如权利要求6所述的实现方法,其特征在于,所述传感器包括光传感器和热传感器,所述突触器件包括光突触器件和热突触器件。

9.如权利要求6所述的实现方法,其特征在于,所述场效应晶体管为背栅场效应晶体管,包括衬底和位于衬底上的沟道,沟道两端分别为源极和漏极,其中,所述衬底为硅/高k衬底,所述沟道为Bi2O2Se纳米片。

10.如权利要求8所述的实现方法,其特征在于,对于单个背栅场效应晶体管,根据下述方法实现相应特性:

1)温度传感特性:固定漏端电压Vd,提取关态区的沟道电阻随温度的变化,实现温度传感;

2)光传感特性:固定漏端电压Vd,在器件能够响应的波长范围内,固定光波长和栅极电压Vg,不同光功率密度下器件的输出特性曲线不同,具有光响应性,从而实现光传感;

3)光突触特性:固定漏端电压Vd,固定光波长和光功率密度,固定栅极电压Vg,采用脉冲光进行连续刺激,器件沟道电流长时间衰减不到初始水平,呈现长时程突触可塑性;施加连续的2个脉冲光刺激,第二个脉冲对沟道电流的影响高于第一个脉冲,呈现双脉冲易化特性;

4)热突触特性:固定漏端电压Vd和栅极电压Vg,对器件施加升温脉冲,沟道电流的回复缓慢;施加降温脉冲,每一个脉冲都相较前一个脉冲的沟道电流增加,呈现出热突触特性;

5)抑制神经元特性:固定栅极电压Vg,设置相同频率的漏端电压Vd脉冲信号,不同幅值的脉冲对应不同的电流脉冲发放次数,多次测试的统计性结果呈现出明显的“sigmoid”函数形式,呈现抑制神经元特性。

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